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立式PECVD设备

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产品型号KJ-PECVD-DZ

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更新时间：2022-09-01 15:42:44浏览次数：121次

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郑州科佳电炉有限公司

经营模式：生产厂家

商铺产品：206条

所在地区：河南郑州市

联系人：陈科（经理）

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产品简介

产品介绍：该系统以含钼电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温仪表，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端能不锈钢法兰密封，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，真空泵接口，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点

详细介绍

产品介绍：
该系统以含钼电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温仪表，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端能不锈钢法兰密封，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，真空泵接口，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
结构组成：
定制立式PECVD设备，由真空立式管式炉、石英真空室、射频电源、供气系统、真空测量系统组成。

主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。

应用范围：
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。该系统广泛应用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管（CNT）、石墨烯材料等。

技术参数：

产品名称	定制PECVD设备
产品型号	KJ-PECVD-DZ
立式管式炉
炉膛模式	立式开启式
炉膛材料	进口氧化铝耐火纤维
加热元件	进口含钼加热丝
极限温度	1200℃
工作温度	≤1100℃
升温速率	≤20℃(建议:15℃/min)
加热温区	单温区、多温区
温区总长度	200、300、440
炉管材质	高纯石英
炉管直径	40、50、60、80、100、120、150mm......
密封方式	304不锈钢真空法兰一套(含密封硅胶圈)
控制模式	触屏 30段智能PID程序控温预留通讯接口
控温精度	±1℃
温度曲线	多段"时间—温度曲线"任意可设
测温元件	K型热电偶
气路系统
工作电压	220V/50HZ
输出功率	18W
工作温度	5--45℃
气压	3*106Pa
气体通道	可同时连接多种气源
流量计	质量流量计
A路量程	0～500SCCM
B路量程	0～500SCCM
C路量程	0～500SCCM
气路压力	-0.1～0.15 MPa
截止阀	不锈钢材质
气体连接管	1/4不锈钢管
等离子电源系统
射频频率	13.56 MHz ±0.005%
功率范围	0-100W、0-300W 、0-500W ± 1%
射频接口	50 Ω, N-type
嗓声	≤55DB
冷却	风冷
输入功率	1KW AC220V/50HZ
数显真空计及连接件
数显真空计	数显真空计安装在不锈钢法兰上
真空泵组(相关连接配件)
真空泵	真空泵,及相应连接管件 220V/50HZ
汽化系统
蠕动泵	精确度：+/- 0.5% FS 流量: 0 - 10 ml/min，可调，最小速率0.1ml/min 将吸液管放置在溶液容器中，蠕动泵可自动抽取液体

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