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HI84100二氧化硫滴定分析仪

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更新时间：2018-05-14 09:00:00浏览次数：658次

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产品简介

HI84100二氧化硫滴定分析仪

详细介绍

HI84100二氧化硫滴定分析仪概述：

HI84100采用滴定分析方法快速测量残留二氧化硫和总二氧化硫含量。在食品加工领域，二氧化硫的主要应用是进行防腐。以葡萄酒为例，当有氧存在时将zui先与二氧化硫发生反映，起到抗氧化的作用，进而保证酵母菌的正常发酵，并抑制其他杂菌。

HI84100二氧化硫滴定分析仪特点：

* 基于微电脑控制技术，集滴定分析，磁力搅拌和电极测量于一体。
* 性能优良操作简单，可直接显示测量结果。
* 人性化设计，具有稳定标识和校准信息等显示功能。
* 残留二氧化硫浓度取决于三个因素：总添加量，原初始量，添加的氧化程度。
* 通常残留二氧化硫浓度为0.8ppm即可保证抗氧化和净化杂菌的作用。
* 当残留浓度超过2.0ppm时，即被人感知到，因此以此浓度作为上限值。

技术参数：

测量项目	技术参数描述
测量范围	0 to 400 ppm (mg/L) SO₂
解析度	1 ppm (mg/L)
测量精度	读数的5%
测量方法	滴定法
测量原理	等电位氧化还原滴定法
样品取样量	50 mL
氧化还原电极类型	HI 3148B/50食品玻璃复合氧化还原电极，电极适用温度范围：20 to 40°C
定量泵设置	流量设置为：0.5 mL/min
磁力搅拌设置	搅拌速率设置为：1500 rpm
适用环境	0 to 50°C（32 to 122°F）；max 95% RH 无冷凝
电源模式	AC230V/60 Hz；10VA
尺寸重量	主机尺寸：208 x 214 x 163 mm 主机重量：2200 g
pH值与游离二氧化硫转换关系
相关项目		pH值与游离二氧化硫转换对应值
pH值		3.0pH	3.1 pH	3.2 pH	3.3 pH	3.4 pH	3.5 pH	3.6 pH	3.7 pH	3.8 pH	3.9 pH
游离二氧化硫（ppm）		14	18	22	28	35	44	55	69	87	109