电子工业超纯水设备结构

紫外线技术主要应用在消毒和降解TOC方面，电子工业用超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器． 纳离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统，紫外线消毒器、RO反渗透主机系统、离子交换混床（ ED I 电，除盐系统）系统、紫外线TOC处理器等构成主要设备系统。

CS系列

生命科学领域中，观察对比描述、实验和人工模拟构成了生命科学的研究方法。而在实验研究法中，无论是研究微生物、植物、动物还是人类．无论是进行生物实验还是模拟实验，建立满足要求的实验条件，都是zui终获得科学客观实验数据和结果的必要保证，紫外线技术的应用能够有效控制实验用水的微生物污染和TOC指标。

电子工业超纯水设备配件表

大中型纯水系统常使用全自动软水器以除去原水中的钙镁离子。全自动软水器由钠离子树脂罐、再生盐箱及多路控制阀组成，能够设定程序控制运行，自动再生（时间型/流量型两种控制方式），再生时利用虹吸原理吸盐，再注水化盐，再生时间通常为2小时。

小型台式纯水机一般使用10寸/20寸软水树脂滤芯来降低原水硬度。

反渗透单元

RO（Reverse Osmosis）反渗透技术是利用压力表差为动力的膜分离过滤技术，源于美国二十世纪六十年代宇航科技的研究，后逐渐转化为民用，已广泛运用于科研、医药、食品、饮料、海水淡化等领域。

RO反渗透膜孔径小至纳米级（1纳米=10-9米），在一定的压力下，H2O分子可以通过RO膜，而源水中的无机盐、重金属离子、有机物、胶体、细菌、病毒等杂质无法通过RO膜，从而使可以透过的纯水和无法透过的浓缩水严格区分开来。

RO膜对高价离子、胶体、细菌及分子量大于300 dalton的有机物质（包括热源）去除率高达99%以上，对低价离子（NA+、K+）去除率达95%，当源水电导率<3505µs/cm，RO纯水电导率通常≤55µs/cm，符合国家三级用水标准。再经过原子级离子交换柱循环过滤，出水率可达18.2MΩ.cm。

反渗透法是可达到90%～99%杂质去除率的方法，同时也是试剂级超纯水系统的前处理方法。

备注：RO膜的过滤能力受水温影响较大，的水温为25℃～30℃，温度下降1℃，RO膜的产水量约下降3%，当水温接近0℃时，RO膜将停止产水。

.采用单向浮力阀设计，避免金属腐蚀、橡胶老化的问题。

工业纯水设备/纯化水设备紫外线杀菌特点

紫外线杀菌的原理一般认为是生物体内的核酸吸收了紫外光的能量而改变了自身的结构，进而破环了核酸的功能所致。当核酸吸收的能量达到致死量而紫外光的照射又能保持一定时间时，细菌便大量死亡。

1.紫外线杀菌速度快，效率高，效果好。

2. 紫外线照射不会改变水的物理和化学性质，对纯水不会带入附加物所引起的污染。

3. 适用于各种水的流量下，操作简单，适用方便，只需要定期清洗石英玻璃套管，更换灯管即可。

4. 体积小，轻便，耗电低。

5. 紫外线杀菌没有持续消毒作用，易受二次污染。 　紫外光（UV）的氧化作用。

系   列                               流量区间

CW系列：微电子          6m³/h-100 m³/h

CS系列：生命科学       2 m³/h-40 m³/h

CW系列

半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。