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NaOH溶液吸收法：反应方程式：

2NOx    2NaOH    NaNO2    NaNO3    2O

NO    NO2    2NaOH    2NaNO2    H 2O

该法主要用于处理硝酸生产尾气、 硝化反应尾气以及使用硝酸处理金属产生的废气。这类废气中浓度一般在 1000—5000PPm之间，有时更高，但排放量并不大

尿素一硝酸溶液吸收法：

我国某航大发射中心对于加注系统及库房产生的氮氧化物废气，    就是采用这种方

法处理的。该处理系统经多年使用证明，其处理氮氧化物的效率高，性能稳定。

水一*两段吸收法：

氮氧化物废气常采用水吸收处理。由于水吸收 NO的效率很低，而 FeS04 对 NO 具有很高的吸收率，生成不稳定的络合物其反应方程式：

FeSO4    NO    Fe( NO)SO4

Fe— EDTA—S032 一络合吸收法

固定燃烧装置排放烟道气中的氮氧化物， 90％以上的是 NO，若用溶液吸收，必须使 NO氧化为，吸收效果才好。而用 Fe—EDTA络合物吸收 NO，则可直接与 NO 络合，在还原剂存在的条件下， NO 被还原成、或达到去除的目的。该方法在国内尚未有报道，国外也仅见日本用于中试装置。

我国现有氮氧化物的处理技术

目前 ,近些年发展起来的处理氮氧化物废气的方法主要有电子束照射法，光催化氧化法，生化法，低温等离子体技术，液膜法。

2.1 电子束照射法

电子束照射法的原理是在烟气中加入少量氨气、水蒸气或甲烷气    ,再利用电子
加速器产生的高能电子流   ,直接照射待处理的气体    ,通过高能电子与气体中的氧分子
及水分子碰撞  ,使之离解、电离    ,形成非平衡等离子体    ,其中所产生的大量活性粒子
(如 OH、O 和 HO2 等 )与污染物进行反应        ,使之氧化去除。                
高能电子产生等离子体工艺是工业烟气中去除        NOx 的有效方法之一。其优点
是不产生废水 ,回收副产物  NH 4        3  可作氮肥加以利用    ,    能同时脱除    2 和 NOx ,且
NO                                SO        
具有较高的脱除率。                                            
结合化学方法和等离子体方法的优点        ,有研究采用了一种在等离子体发    
射场中加催化剂的方法   ,来研究催化剂、  等离子体共同作用下烟气中    NOx 的脱
除情况。该领域已开发了一批适用于脱氮过程的催化剂    ,如 Ti O2、 Al 2    3 颗粒
                                    O        
催化剂、 Al 2  3 负载贵金属型催化剂和分子筛催化剂等。近年来有人提出了用高    
O                                    ,陈伟华等
压脉冲电源代替电子加速器的脉冲放电等离子体烟气脱硫脱硝技术        
研究了利用脉冲放电等离子体装置        ,在添加丙烯作催化剂下的脱硫脱硝效果。    
2.2 光催化氧化法                                            
半导体光催化技术是近   3 O 年发展起来的新型节能绿色环保技术，    目前
研究过的光催化剂有   TiO2、ZnO、 CdS、CuO、 WO3、 SnO2 等，在众多的光    
催化剂中 ,*以其化学性能稳定、反应条件温和、催化性能优良、安全无    
毒副作用、无二次污染等优点而被广泛使用。自从    I b u s u k i    *报道了将二
氧化钛应用于  N O 的催化净化， 这方面的研究很多，    邱星林等研制的含纳米级    
Ti O2 的光催化环保涂料，在太阳光作用下，        NO 几乎全部被降解。            2
关于  TiO2  的光催化机理一般认为：在波长小于    380 n m    光的照射下，    
                                    TiO
的价带电子会被激发到导带形成电子一空穴对    ，电子一空穴对迁移到半导体颗    -
粒表面，被表面物种捕获．光激导带电子与吸附在催化剂表面的                
    O2 结合形成·O2
HO2 · O-等活性自由基； 空穴与吸附在  表面的水或覆盖在催化剂颗粒表层的羟    
基反应也能形成· O H 自由基。                                            
NO 的起始浓度、气体停留时间、    反应温度、  紫外光强度等因素对    NO
的分解率有影响。·OH 和 HO· 等自由基对  NOx    的氧化起着非常重要的作用。

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나오 용액 흡수법: 반응 방정식:
2, NOx 2 Naoh NaNO 2 NaNO 3 2 2 (2) 2 Nax 2 Nax 2 NaNO 2
No, NO 2 2 Na 2 Na 2 Na 2 O 2 Na 2 O...
이 법은 니질산 미질화 반응의 미질가스 및 질산처리로 금속을 처리하는 폐기를 다루는 데 사용된다.이런 폐기 중 농도 는 보통 1000 - 500 pm 사이 에 때로는 더 높지만, 배출량 은 그다지 크지 않다
요산 용액 흡수법
우리나라의 한 항대 발사 센터는 가산 시스템 및 창고에 생기는 질소산화물 폐기를 이런 곳에 채택한다
법처의이 처리 시스템은 여러 해 동안 사용되어 질소 산화질자의 효율이 높으며 성능이 안정되어 있다.
수일유황철 2 단 흡수법:
질소 산화물 폐기는 보통 수적 흡수 처리를 한다.물의 흡수는 NO 의 효율을 매우 낮출 수 있기 때문에, F 4 는 NO 에 대해 높은 흡수율을 가지고 있으며, 안정되지 않은 물건을 생성하는 데 그 반응 방정식을 생성합니다.
필손 4 NO Fe SO 4
Fe - ED타 — S 032 완합흡수법
고정연소장치 연도가스 속 질소산화질소, 90% 이상 NO. 용액으로 흡수하면 NO 산화 흡수 를 해야 한다.Fe - EDW 를 사용해서 노리는 것을 NO 로 사용하면, 직접적으로 NO 와 화합하여 환원제로 존재할 수 있는 조건하에서, NO 가 되거나 제거할 수 있는 목적에 도달할 수 있습니다.이 방법은 국내에서도 보도되지 않고, 외국도 일본에서도 중간 장치에 사용된다.
우리 나라는 현재 질소 산화물 처리 기술을 가지고 있다.
최근 몇 년 동안 발전한 처리 질소 산화물 폐기 방법 은 주로 전자빔 조사 법 을 광 촉 산화 법 을 생화법 을 저온 등 오프라인 기술 을 액막 법 이다.
2.1 전자빔
전자빔 사법 의 원리 는 연기 에 소량 의 암모니아 와 수증기 나 메탄 가스 를 넣으며 전자 를 이용하는 것 이다
가속기 가 발생하는 고에너지 전자류 는 직접 처리 의 기체 를 직접 비추며 고에너지 전자 와 기체 속 의 산소 분자 를 통과한다
및 수분자와 충돌로 하여금 이해, 전리하여 비평형등이자체를 형성하였으며, 그 중 발생한 대량의 활성 입자
(오오, O, 호 등) 은 오염물질이 반응해 산화제거에 반영한다.
고에너지 전자에서 등리자체 공예를 생산하는 것은 공업 연기 중 NOX 를 제거하는 효과적인 방법 중 하나이다.그 장점
폐수 없이, 부산물, NH 4 회수해서 질소 비료 사용이 가능하며 2, NOx 를 제거할 수 있습니다.
no. S. O. O.
비교적 높은 탈제율을 가지고 있다.
화학 방법 과 등리 자체 방법 의 장점 을 결합하여 연구 를 채택한 연구 가 있다
사장 에서 촉매법 을 넣 는 방법 으로, 최화학 제, 등리 자체 공동 역할 아래 담배 의 공기 중 NOx 의 탈모 를 연구하러 왔다
상황을 없애다.이 영역 이 질소 탈조 에 적용되는 과정 을 위한 최화제 를 개발했다. 예를 들어 Ti O 2, Al 23 알갱
오
최촉제, Al 22 재 귀금속 형 촉매제와 분자체 촉매제 등.몇 년 동안 어떤 사람이 제기했다.
O, 진위화 등
압맥전원이 전자가속기의 펄스 방전 대신 자체담배 탈황 탈황 기술을 대체한다
맥진방전 등리체 장치를 연구해 아크릴작의 촉매장에 있는 탈황에서 탈황으로 만든 것을 연구했다.
최소화화 산화
반도체 의 최화 기술 은 근 3 년 간 발전한 새로운 에너지 절감 의 녹색 환경 보호 기술 으로 현재 이다
연구한 광촉제: 티오, ZnO, CdS, CuO, W 3, nnO 2 등
최촉제 중, 이산화 티타늄 이 그 화학 성능으로 안정되고, 반응 조건은 온화하다, 촉매 성능이 우량하고 안전하지 않다.
독 부작용 2 차 오염 없는 장점으로 널리 사용된다.부터 I b u s u k i 처음 보도
산화 티타늄 응용 N O 의 촉매 정화, 이 방면 연구, 구성림 등 연구 개발 된 함미급
Ti O 2 의 빛 촉매 에코도료, 태양빛 아래 NO 거의 강해.이
TO 2 의 최화촉매 기치는 일반적으로 파장이 380 n m 에서 비추어,
티오
가격대 전자는 안내로 인해 전공혈 형성, 전자 공혈로 반도체 이동 -
알갱이 표면에는 표면종 물종에 붙잡혔다. 광대역전자와 최화제 표면을 흡착한다
O 2 결합 형성 · O 2
H 2 · O - 등 활성자유기 · 공혈 과 표면 의 물 혹은 촉매 층 에 덮인 히드록이
기 반응도 · O H 자유기 (O H) 를 형성할 수 있다.
NO 의 초기 농도, 기체 체류시간, 반응 온도, 자외광 강도 등 요인
분해율에는 영향력이 있다.· 호 · 등 자유기가 NOx 의 산화에 대해 매우 중요한 역할을 한다.