EDI超纯水设备是专用于生产超纯水的技术设备，采用了“双级反渗透+EDI"的工艺设计，出水电阻率可达16 MΩ*cm(25℃)。双级反渗透系统能够将水中含有的杂质有效分离，这个处理过程主要借助反渗透膜孔径小、孔隙率高的优势，使微生物、金属离子、矿物质等成分被膜截留，与超纯水分离。

　　反渗透膜处理不需要高温，工艺流程也比较短，操作十分简单。它的运行以压力为驱动力，并且自动化较强，无须人工力量干预。EDI技术是为超纯水深度脱盐的技术，该模块处理无污染物析出，也不会产生酸碱废液。EDI进水为二级反渗透产水，水质较好，脱盐后浓水水质仍旧能够优于一级反渗透产水，可回流至一级反渗透产水箱。

　　经过两次反渗透系统处理和EDI脱盐处理之后产生的超纯水，基本不含任何金属离子、有机物、细菌、微生物等杂质，仅保留氢原子和氧原子两种成分。这种高纯度的水一般多在工业生产中使用，比如半导体、制药、航天零部件生产等，不但能提高产品质量，在清洗保养中也不会造成产品污染，使用价值很高。

　　列举几个可应用超纯水参与生产的领域：

　　蓄电池电解液：利用超纯水配制蓄电池电解液，可以避免水中含有的金属离子对蓄电池导电性造成干扰;

　　微生物培养营养液：超纯水水质好、纯度高，配制营养液可以避免其含有杂质对微生物培养结果造成影响，保障实验数据准确性;

　　硅晶圆清洗：硅晶圆是半导体生产中的基本原料，其清洁度与产品质量紧密相连。采用超纯水清洗硅晶圆，基本不影响硅晶圆清洁质量，安全可靠。