半导体行业用超纯水设备 超纯水机

半导体行业用超纯水设备首xuan东莞谦和水处理，谦和水处理专业生产超纯水设备，纯水处理设备，去离子水设备。

半导体行业用超纯水设备的水处理系统工艺流程如下：                        

市政自来水→源水箱→源水增压泵→多介质过滤器→活性碳过滤器→保安过滤器→高压泵 →反渗透系统→中间箱→增压泵→紫外线杀菌器→微滤器→EDI装置→纯水箱→氮封无菌储水箱→增压泵→抛光混床→用水点

一、   工艺概

1.预处理:

预处理主要是去除水中的有机物、悬浮物、胶体和余氯等，以确保RO能正常工作。处理工艺采用多介质过滤、活性碳吸附，减少RO工作时产生垢物和藻类生长及微生物污染及氧化剂。预处理系统包括：源水箱、源水泵、多介质过滤、活性碳过滤。

2.源水箱：

源水首先流入源水箱。源水箱对源水的供给起到缓冲作用，协调源水的供给量与源水泵的输入量。当源水的供应量超过源水泵的输水量时，源水箱水满，通过源水箱的液位控制使用源水供给停止。当源水供应量小于源水泵的输水量时，源水箱空，源水泵停止运行，起到保护源水泵的作用。

3.源水泵：

本系统配置一台多级立式CHL4-40型特种离心水泵，用于对源水加压，为预处理系统提供动力源，该泵单台流量4.0m3/h，扬程40m，功率0.75kw，材质为不锈钢。该泵具有体积小，高效率，低噪音等特点。 

4.多介质过滤器：

本系统是对源水中悬浮物、颗粒物及胶体等物质进行去除，同时对源水中的浊度、色度起到降低作用，它可滤掉源水带来的颗粒、藻类等可见物。

多介质过滤是一种*的微絮凝过滤方式，本公司提供的多介质过滤器含有材质各异的多层过滤介质，完*滤除不溶于水中的杂质，保证SDI值不大于4，是后级RO的强有力保护屏。能更好的去除水中的悬浮物或非溶解性粒子（氧化物、浊度、颗粒物等），具有低成本，操作维护、管理方便等特点，特别是在降低源水中的浊度、污染指数等方面具有很好的效果。

该系统设置一台玻璃钢多介质过滤器，规格为φ16×65″，过滤器内填精制的具有良好的级配石英砂和无烟煤，滤层高度一般≥1000mm，在正常工作情况时，正常流速8-12m/h，总产水量为3.5m3/hr。

多介质过滤器反洗周期时间为16-48小时。反洗以压力参数设备来控制反冲洗周期，当进出水母管上的压力差达到0.7kg/cm2时即停止运行进行反冲洗，通过多路阀控制器进行滤器顺序反洗、气擦洗、正洗工艺过程。

5.活性炭过滤器：

活性炭工艺在水处理领域中占有相当重要的地位，是水深度处理中*的工艺，它所具有的某些特殊功效是其它水处理工艺所无法替代的。

去色:可去除由铁、锰及植物分解生成物或有机污染物等所形成的色度。

脱氯:可去除因余氯所造成的嗅味。

去除有机物:可去除由于水源污染而常规工艺又无法去除的水中微量污染物，如农yao，杀虫剂，氯化烃，芳香族化合物，以及BOD与COD等。

去除有机氯:可去除在源水净化过程中及自来水出厂前投加预氧化剂和消毒剂（如lu气）所产的THMS等“三致”物质。有分析表明，自来水中“三致物质THMS占去大半，有效的去除对于提高水质量十分关键。

去除氨氮和亚硝酸盐:活性炭可有效去除氨氮和亚硝酸盐。去除剩余氯或氧化剂，保护超滤、反渗透的滤膜,另外，它还可以除臭，去除水中的微量重金属离子（如汞、铬等离子），合成洗涤剂及放射性物质等。

为保证系统设备稳定运行、出水水质及出水流量、故障排除、反洗等稳定因素，该系统配置一台玻璃钢活性炭过滤器，规格为φ16x65″，过滤器内填精制果壳型活性炭，在正常工作情况时，正常流速10-15m/h，滤层高度一般为≥1000mm，总产水量3.5m3/hr。