为微波合成研究提供了一个全新和的工具，使微波合成达到了*的可靠性和性能Monowave 提供C和30 bar(435psi)的Z高单模微波工作温度和压力，为合成方法开发和反应优化提供了全新空间。Z高的微波场密度保证了在任何反应体积、任何反应溶剂都能得到可重复的和出色的加热速率，无需使用任何辅助加热元件。的红宝石晶体发光光纤传感器保证了实时的反馈控制，同时也实现了Z高精度的温度测量。
超乎想象
Monowave 300可以使您能在以前不可能达到的条件下使用某些试剂和溶剂。使您能突破常规单模合成的限制进行方法的开发，来研究温度和压力的提高对反应活性和反应过程的影响。
就利用Monowave 300的高效搅拌和标准内置温度测量来试一下您的*个微波反应。纸上没有吹嘘，但是终究百闻不如一见。。。。
您能感受到的*优势
? 快速和*的加热
? 方便内部温度测量
? zui高的准确性和再现性
? 新方法开发的新空间
? 强力的搅拌有助益混合
? 用户友好的智能软件
? 内置8.4’’触摸屏控制器
满足多领域的应用的伙伴
制药研究：
? 方法开发和优化
? 构建单元合成
? 中间体修饰和骨架分子修饰
有机化学:
? 杂环合成
? 金属催化
? 键形成反应
? 缩合反应
? 加环反应
? 固相合成
生物医药:
? 衍生反应
? 多肽合成
材料化学:
? 纳米颗粒制备
? 分子筛合成
? 高分子材料合成
技术参数：
?--实现zui高的单模合成条件：300?C和30 bar（435psi）
?--zui高850W 连续非脉冲微波
?--zui高的微波场密度
?--超常的加热速度（3-9?C/秒）
?--600rpm高效磁力搅拌速度
?--自动调谐微波腔保证不同体积和极性的溶剂的高效加热
主要特点：
--- 全面反应控制记录
? 内置液压传感器使反应范围更广
??内置红外温度传感器进行常规温度测量
??的光纤温度传感器实现对反应的精确控制
??自动式气动控制过压安全释放功能
--- 8.4英寸触摸屏控制系统
?全新智能控制软件，具有逻辑触摸屏导航
?明亮的大控制图标使操作简单容易
?不同操作者设定不同控制权限
?内置AFAP快速加热模式或自己设定多步反应程序
?重要样品可设定优先排队选项
---- 完整的数据管理
?彩色反应曲线图同时显示所有相关参数
?局部放大功能进行可获得更详细信息
?方法库zui多可存1000个实验
?可通过USB进行数据导出
?直接生成pdf格式的反应报告
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