技术应用链接:
特点：
·便捷的触摸屏操作界面
·专用软件支持自动/手动操作模式可切换（自动模式下可储存多套工艺程序），支持操作权限分级设定
·数字及图形化工艺参数控制及实时显示
·支持6＂/8＂/12＂ wafer的去胶清洗
·安全及异常报警功能
·多语言：法语、英语，德语，中文
用途：
·去除光刻胶
·干刻或湿刻处理前或后
·SU-8或其他环氧基树脂
·MEMS制造中去除牺牲层
·去除光刻胶，SU-8，环氧树脂
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规格
型号 | Nano 6＂ | Nano 8＂ | Nano12＂ | ||||
控制系统 | 控制方式 | 全自动控制（自动/手动切换） | |||||
操作系统 | Windows/西门子IO工控软件 | ||||||
触摸屏 | 3.5/7/15 | ||||||
工艺气体气路 | Max.10路 | ||||||
流量计 | MFC数字流量计 | ||||||
反应腔 | 腔体材质 | 高硼硅玻璃/石英可选 | |||||
内尺寸(Φ×D) | Ø 240 x D 600 mm | Ø 305 x D 400 mm | Ø 400 x D 600 mm | ||||
容积(L) | 27 | 29 | 75 | ||||
腔门（不锈钢/铝） | 推拉门/铰链门可选，标配观察窗 | ||||||
托盘 | 石英舟，方形石英支架可选 | ||||||
电极 | 材质 | 360度外置环绕，铝/不锈钢电极 | |||||
发生器
| 频率/功率 | 13.56MHz 0-300W,0-600W,0-1000W 2.45GHz 0-850,0-1000W,0-1200W | |||||
真空压力计（mbar) | 皮拉尼真空传感器（0.01-9.99) | ||||||
外形尺寸WDH（mm) | 560x800x800 | 1200x800x1700 | |||||
电源 | AC400 V / 16 A | ||||||
真空泵 | 排气速度 | ≥30m3/H | 排气速度≥36m3/H | 排气速度≥60m3/H | |||
真空度 | ≤1Pa | ≤1Pa | ≤1Pa | ||||
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