UX-510 X荧光光谱仪
产品特点：
• 真空测试系统
特别设计的真空测试系统，**保证了轻质元素（CL等）的检测质量，同时保留了原有测试系统对于其他元素的适应性。不会因测轻质元素而降低对其他元素的测试效果。
• 全自动操作
自动化的操作系统、人性化的操作界面，通过鼠标即可完成全程操作（真空控制、原级滤光片、准直器、二次滤光片、样品的移动和样品盖的开关、工作曲线的选择全部实现自动化控制，程序会根据预先设定的测试条件自动进行所有的切换动作）。
• 照射区**控制系统
可**调整的X光照射区域控制系统，实现了对测试区域的准确把握。从根本上保证测试数据的对应性。
• 成熟的经典分析方法
集国家七·五、九·五科技攻关计划之科技成果，汇近二十五年分析测试应用经验的经典数学分析模型，为测试者提供可靠、精准、稳定的分析结果。
• 强大的软件功能
高度智能化设计使操作更加简便，轻松成为测试专家。
可根据测试情况，自动设定各操作单元动作及相关技术参数。既保证了相关器件的寿命，又避免了人为操作误差。
全自动高精度背景拟合、多元回归等解谱方法的应用，使复杂材质的检测更加准确、便捷。
特别预置的谱图对比功能，很方便的实现历史谱图与被测谱图的对比，利于对数据变化材质的**分析，进一步提高企业的风险应对水平。
简单、迅速的数据管理与报告输出格式，方便用户进行相关的数据管理与报告输出。
• 开放性工作曲线
用户可很方便的建立不同材质材料的工作曲线，提高工作曲线与被测材料的对应性。建立本地化的工作曲线库，从而**提升检测精度。
• 严谨的硬件集成与结构设计
对可能影响整机**度及稳定性的核心器件，全部采用优异进口原厂产品。
严谨的模块化设计与组件选择，确保了整机性能的稳定性与未来服务的操作简便性。
特别设计的原级、二次滤光系统，既保证了对有害元素的激发效率，同时**降低了作为干扰因素的背景强度，充分提高峰背比，大幅度降低检出下限。
• 全光路射线防护系统
优越业界的全光路三重防护系统（软件防护、硬件防护、迷宫式结构），根本上避免了故障、误操作等可能的辐射伤害。确保机器操作过程中辐射量低于环境本底值。（开盖测量除外。大样品进行开盖测量时的特别警示系统，进一步确保用户在该类物质测试过程中的安全顾虑）。
全光路防护的结构设计，减少了无射线区域的无必要防护，进一步确保了整机散热质量，**提升系统的环境适应性及稳定性。
• **的配套组件
购置附件后可进行六价铬定量测试。
配套多元素分析软件后配合真空装置测试范围可扩展到（AL~U），满足扩展的元素检测需求。
镀层分析软件，可进行镀层膜厚测试。
多元素分析及镀层分析软件为二选一标配，用户如需要另外一款软件需另行购置。
| UX-510配置与参数 |
| 探测器 | Amptek X-123 配置原厂MCA |
| 高压电源 | Spellman MNX50P50 |
| X光管 | 丹东 专用X光管 Mo靶 |
| 真空泵 | 宁波爱科发 N051 |
| 自动化操作系统 | 华唯砖利设计 实现：真空、原级滤光片、准直器、二次滤光片、样品及测试区域定位、样品盖开关、工作曲线选择全自动 |
| 分析软件 | UX-510 V6.0 ； 多元素分析软件， 镀层膜厚分析软件（二选一）。 |
| 技术参数 |
| 仪器尺寸 | 830 (W)*530(D)*500(H)mm |
| 装箱尺寸 | 970(W)* 640(D)* 680(H)mm |
| 样品腔尺寸 | 小样品腔：300(W)*300(D)*100(H)mm； 真 空 腔：ø 200*40(H) mm 大样品腔：无限制，小于30公斤 |
| 真空度 | 测试真空度20Pa，极限真空0.1Pa |
| 重量 | 净重：85kg |
| 工作环境 | 15—30℃ 相对湿度≤85%（不结露） |
| 可分析元素范围 | Al-U |
| 极限检出限 | Cd/Cr/Hg/Br≤2 ppm ,Pb≤5ppm CL≤50ppm |
| 测量时间 | 200-400s |
| 探测器*佳分辨率 | 149±5eV |
| 电源 | AC 220V ± 10%，50Hz 1500W |
| 选配件 |
| 六价铬测试仪 |
| 多元素分析软件， 镀层膜厚分析软件（二选一） |
