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爱德华edwards半导体干式真空泵iH1000 干式泵

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更新时间：2023-05-20 07:40:26浏览次数：328次

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产品简介

iH高真空干泵爱德华edwards半导体干式真空泵iH1000干式泵我们的iH干泵为高难度的制程（如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品）提供高度可靠、成本低廉的泵解决方案

详细介绍

iH 高真空干泵爱德华edwards半导体干式真空泵iH1000 干式泵

我们的 iH 干泵为高难度的制程（如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品）提供高度可靠、成本低廉的泵解决方案。iH 系列具有五级主泵，使用创新的悬臂式转子、爪式和罗茨设计，可改善粉尘的处理，减少排气噪音。此外，iH 系列泵配有一台单级机械增压泵和封闭的水冷却电机。

Standard_Body_Image_iH

应用

负载锁定
转换
计量
平版印刷
PVD 制程
PVD 预清洁
RTA
剥离/灰化
刻蚀
植入源
HDP CVD
RTP
SACVD
MCVD
PECVD
LPCVD
ALD

功能与优势

优化了设施消耗
无需预防性维护
悬臂轴和特殊的异型转子便于颗粒的处理
在节省电机功率的同时提高了工作繁重的 CVD 应用条件下的稳定性
耐腐蚀的制造材料允许泵送腐蚀性气体
较高的工作温度为避免气体冷凝提供了充分的安全保证
轴杆一体化设计无需电机联轴器，第五抽排级免除对消音器的需求，也避免了颗粒堆积，两者均减少了总体占地空间

概述

Edwards 高级半导体真空泵已经过现场应用证明，可以按照Z高工作标准运行。通过延长使用寿命、提高运行时间并提高生产率，同时地减小占地面积、降低运行成本，实现了高的可靠性和性能。

iH 系列为难以执行的制程（如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品的 PECVD 和 LPCVD 制程）提供了高可靠性。

应用

负载锁
输送
计量
平版印刷
PVD 制程
PVD 预清洁
RTA
剥离/灰化
刻蚀
植入源
HDP CVD
RTP
SACVD
MCVD
PECVD
LPCVD
ALD

有关任何特定应用条件下 iH 系统稳定性的建议，请与 Edwards 联系。

iH1000 干式泵 460V，60 Hz，3 相

A

iH1000 干式泵 200/208V，50/60 Hz，3 相

A

iH1000 干式泵 380/415V，50 Hz，3 相

A

iH1000 干式泵 230V，60 Hz，3 相

A

功能和优势

优化了设施消耗。
无需预防性维护。
悬臂轴和特殊的异型转子便于颗粒的处理。
在节省电机功率的同时提高了工作繁重的 CVD 应用条件下的稳定性。
耐腐蚀的制造材料允许泵送腐蚀性气体。
较高的工作温度为避免气体冷凝提供了充分的安全保证。
整体式轴杆无需使用电机联结器，而第五级泵消除了使用消音器的需要并消除了颗粒堆积，从而降低了总体占地面积。

技术数据

峰值速度	1000 m3h-1
	589 cfm
	16670 l min-1
极限真空	1 x 10-3 mbar
	7.5 x 10-4 Torr
	0.1 Pa
典型轴封氮流量	4 slm
进气口连接	ISO100
出口连接	NW40
15 psi 压降下典型冷却水流量	240 l h-1
	4 l min-1
重量	430 kg
极限功率输入	3.8 kW
电机额定功率	6.1 kW
油容量	1.48 l