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| CM2000/4 （PP2000/4） |
| 功率 | 2.2-4 KW |
| 转速 | 0-14000rpm |
| 线速度 | 0-40m/s |
| 尺寸（长X宽X高） | （450X250X350）mm |
| 重量 | 45 |
| 操作条件 | 0-16bar |
中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生 向下的螺旋冲击力，透过中试型胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
CM2000/4中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4中试型胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。 CM2000/4中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
公司另外一项*的创新，就是锥体磨CMO2000系列，它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新，CMO2000能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。 研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散胶体磨
流量*
输出
线速度
功率
入口/出口连接
类型
l/h
rpm
m/s
kW
CM 2000/4
700
9,000
23
2.2
DN25/DN15
CM 2000/5
2,500
6,000
23
7.5
DN40/DN32
CM 2000/10
7,500
4,200
23
15
DN50/DN50
CM 2000/20
20,000
2,850
23
27
DN80/DN65
CM 2000/30
40,000
1,420
23
50
DN150/DN125
CM 2000/50
80,000
1,100
23
110
DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%
效果和zui后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。
| 胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
| CM 2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
| CM 2000/5 | 2,500 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
| CM 2000/10 | 7,500 | 4,200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
| CM 2000/20 | 20,000 | 2,850 | 23 | 27 | DN80/DN65 |
| CM 2000/30 | 40,000 | 1,420 | 23 | 50 | DN150/DN125 |
| CM 2000/50 | 80,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
| *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10% |
