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光解除臭设备本公司采用的半导体是目前反应效率纳米TiO2光催化剂,经过特殊处理后使用,达到理想效果
工业废气光解净化设备氧化性强：半导体光催化具有氧化性强的特点
光解式废气净化设备，由于在光催化氧化反应过程中无任何添加剂，所以 不会产生二次污染。
破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，*达到脱臭及杀灭细菌的目的。
uv光解设备厂家利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，*达到脱臭及杀灭细菌的目的。
uv光解设备利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，*达到脱臭及杀灭细菌的目的。
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