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上海将来实验设备有限公司
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上海将来实验设备有限公司供应CVD管式气氛炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等实验。
如本产品参数不符合您要求，您可，由我们销售工程师为您*符合您要求的产品。
JK08-13-2ACVD高温管式气氛炉 产品特点：
JK08-13-2ACVD高温管式气氛炉 技术参数：
| 型号 | JK08-13-2A |
| 设计温度 | 1000-1300℃ |
| 控温精度 | ±1℃ |
| 极限真空度 | -0.01mpa（机械泵） |
| 温区 | 双温区 |
| 管径长度 | Ф100＊1200 |
| 输入功率 | 9KW |
| 电源电压 | AC380V |
| 加热原件 | 硅碳棒、镍铬丝 |
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