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多晶硅生产过程中需要什么样的废气处理设备

2020-07-02来源:普泰环保作者:普泰环保标签:废气处理设备

  多晶硅的生产中,还会产生一定的废气和残液,目前我们的废气处理设备已经比较先进,对以前的处理技术进行了改进,已经达到了较高的水平。
 
  多晶硅是太阳能和微电子产业的关键原材料,随着我国太阳能产业的快速发展,多晶硅的需求量也与日俱增。目前,多晶硅工艺技术空前活跃。主要有西门子法、冶金法、等离子法、硅烷法、流化床法、熔盐电解法、无氯工艺技术等。西门子法是通过气相沉积的方式生产柱状多晶硅。为了提高原料利用率,在原基础上采用闭环式生产工艺即改良西门子法。改良西门子工艺生产的多晶硅产能约占世界总产能的80%。
 
  国内外对西门子法制备高纯多晶硅的研究较多。如张玉等人采用催化化学气相沉积法制备多晶硅薄膜;美国M.M.Dahl等人研究了多晶硅在流化床中的微观结构和颗粒生长。此外,多晶硅的生产技术还有碳热还原法、区域熔炼法等。碳热还原法是利用高纯碳还原二氧化硅制取多晶硅,区域熔炼法是利用金属定向凝固原理将金属级硅提纯到、太阳能级硅的。
 
  废气和残液的处理
 
  在多晶硅制备中有大量的废气和废液产生,国内多数单位通常先用水洗水解,然后通过NaOH中和废气处理和残液处理工序。
 
  废气净化
 
  氯硅烷分离提纯工序各精馏塔顶排放的含氯硅烷、氮气的废气,及含氯硅烷、氢气、氮气、氯化氢的多晶硅还原炉置换吹扫气和多晶硅还原炉事故排放气等,被送进尾气洗涤塔组,用水(盐酸溶液)洗涤,废气中的氯硅烷与水发生以下反应而被除去:
 
  SiHCl3+2H2O=SiO2+3HCl+H2
 
  SiCl4+2H2O=SiO2+4HCl
 
  SiH2Cl2+2H2O=SiO2+2HCl+H2
 
  出尾气处理塔顶含有氮气和氢气的废气经液封罐放空,出尾气处理塔塔底含有SiO2固体的盐酸溶液用泵送入工艺废料处理工序。
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