** 特点:
1、采用高纯陶瓷复合加热器,适用于高真空环境,在高温环境下不释放气体,耐酸碱盐及有机溶液的腐蚀;
2、面加热,温度分布均匀,可以充分接触加热;升温速度迅速,4-5s可升到1000℃,高真空或惰性气氛下可加热到1500℃,
有氧环境建议低于600℃短期使用;
3、适用于快速煺火炉、溅射镀膜设备、电镜样品加热、MBE设备、金属蒸发、TDS热脱附等设备;
4、有目前zui大3英寸的圆形和zui大93.4mm*75mm的矩形加热器供选择。
公司名称(现用名):北京维意真空技术应用有限责任公司
公司名称(曾用名):北京科立方真空技术应用有限公司
覆盖区域:北京、天津、河北
北京维意真空技术应用有限责任公司,原名北京科立方真空技术应用有限公司,创立于2013年,位于中国·首都北京密云经济技术开发区,主体经营分为真空配件销售、真空设备定制、浅蓝纳米科技三个部分,是北京从事真空产品设计、制造、销售、维修、保养于一体的专业性的公司,公司拥有一支专业、优秀的产品技术工程师和维修技术工程师,具有丰富的行业经验,同时还与北京工业大学联合研发等离子体增强化学气相沉积系统,与北京交通大学联合研发原子层沉积系统,满足高校、研究所的教学、科研使用,同时减少相关进口设备的*,并力争创造外汇,打出中国创造的!
我们的客户遍布北京各高校和研究院所、电力试验所、各级的材料、物理、化学、纳米等研究领域*的实验室,期待您就是我们的下一位客户、朋友!
您的满意微笑是我们一直努力追求的经营目标!
技术创新、业务专业、服务诚信是我们一直遵循的经营理念!
我们热诚欢迎国内外*的仪器制造商及科学工作者与我们联系开展各层面的合作,打造成*的真空系统产品、等离子体增强化学气相沉积系统和原子层沉积系统供应商。
** 特点:
1、采用高纯陶瓷复合加热器,适用于高真空环境,在高温环境下不释放气体,耐酸碱盐及有机溶液的腐蚀;
2、面加热,温度分布均匀,可以充分接触加热;升温速度迅速,4-5s可升到1000℃,高真空或惰性气氛下可加热到1500℃,
有氧环境建议低于600℃短期使用;
3、适用于快速煺火炉、溅射镀膜设备、电镜样品加热、MBE设备、金属蒸发、TDS热脱附等设备;
4、有目前zui大3英寸的圆形和zui大93.4mm*75mm的矩形加热器供选择。
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