NANO-MASTER提供兆声硅片清洗机，用于*的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的zui大化达到理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。
通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了zui低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，*的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。
SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。
硅片清洗机的特点：
- 支持12”直径的圆片或9”x9”方片
- 独立系统
- 无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干
- 微处理机自动控制
- 化学试剂滴胶单元
- 溶剂与酸分离排废
- 热氮
- 30”D x 26”W 的占地面积
兆声无损选配项：
- 掩模板或晶圆片夹具
- 臭氧清洗
- PVA软毛刷清洗
- 高压DI清洗
- 氮气离子发生器
