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大基片单晶圆全自动兆声清洗机

参考价 ¥ 40
订货量 ≥1
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称德国韦氏纳米系统(香港)有限公司
  • 品       牌
  • 型       号LSC-5000LS
  • 所  在  地香港特别行政区
  • 厂商性质经销商
  • 更新时间2020/1/8 12:40:25
  • 访问次数412
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First-Nano System GmbH

2003年          创立于德国德累斯顿工业大学(Dresden University of Technology)


2008年          香港成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司  


2015年          上海成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司中国代表处,负责中国区业务

德国韦氏纳米系统成立以来,一直为客户想的更多,Thinking more !!!

产品范围:

薄膜沉积/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma
- Wet: Megasonic, Brush, SC1, SC2, Piranha, O3DIW
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

清洗机,分析仪
大基片单晶圆全自动兆声清洗机技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得zui干净的晶圆片和掩模版。
大基片单晶圆全自动兆声清洗机 产品信息

技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得zui干净的晶圆片和掩模版。

German First Nano System提供兆声大基片单晶圆全自动兆声清洗机用于*的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。German Fisrt Nano System 技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的zui大化支持的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。

LSC-5000大基片单晶圆全自动兆声清洗机应用:

湿法刻蚀
硅片
蓝宝石片
圆框架上的芯片
显示面板
ITO涂覆的显示屏
带保护膜的分划版
掩模版空白部位
掩模版接触部位
带保护膜/不带保护膜的掩模版
LSC-5000全自动兆声大基片湿法刻蚀系统的特点:

支持450mm直径的圆片或15"x15"方片
带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体
带化学试剂滴胶的刷子转速可调节
带LABVIEW软件的PC全自动控制
触摸屏用户界面
机械手上下载片,带EFEM以及SMIF界面
安全互锁及警报装置
30"D x 26"W 的占地面积  

    关键词:芯片
    15700106413
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