等离子清洗机原理
什么是等离子体：
等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊情况下可以以第四种状态存在，如太阳表面的物质和地球大气中电离层中的物质。这类物质所处的转态称为等离子体转态，又称为物质的第四态。
在等离子体中存在下列物质，处于高速运动转态的电子，处于激发转态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子、分子解离反应过程中生成的紫外线，未反应的分子，原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。
等离子体是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质。等离子清洗/刻蚀产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电磁场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体越来越稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也越来越长，受磁场作用，发生碰撞而形成等离子体，同时会发生辉光。等离子体在电磁场内空间运动，并轰击被处理物体表面，从而达到表面处理、清洗和刻蚀的效果。
等离子清洗机工作原理分析：电浆与材料表面可产生的反应主要有两种，一种是靠自由基来做化学反应，另一种则是靠等离子作物理反应。
（1）化学反应
在化学反应里常用的气体有氢气（H2）、氧气（O2）、甲烷（CF4）等，这些气体在电浆内反应成高活性的自由基，其方程式为：这些自由基会进一步与材料表面作反应。其反应机理主要是利用等离子体里的自由基来与材料表面做化学反应，在压力较高时，对自由基的产生较有利，所以若要以化学反应为主时，就必须控制较高的压力来近进行反应。
（2）物理反应
主要是利用等离子体里的离子作纯物理的撞击，把材料表面的原子或附着材料表面的原子打掉，由于离子在压力较低时的平均自由基较轻长，有得能量的累积，因而在物理撞击时，离子的能量越高，越是有的作撞击，所以若要以物理反应为主时，就必须控制较的压力下来进行反应，这样清洗效果较好，为了进一步说明各种设备清洗的效果。
等离子体清洗机的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。
技术特点：
1.舱体、管路、阀体全部为不锈钢材料，耐用、防腐容易清洁。
2.仪器实现了手动，自动两种模式任意切换的工作方式，方便用户实验
3.仪器实现了程序化设计，预先编辑好程序，仪器可以自动完成实验
4.无需任何耗材使用成本低，无需特殊进行维护,日常使用保持仪器清洁即可
5.电容式等离子激发，处理效果均匀，激发电极板内置样品仓内顶部悬挂
6.密闭真空环境下完成实验避免二次污染
7.40Khz射频电源,自主研发质量稳定可靠，具有自动保护功能。
8.灵活的参数设置和修改功能，可适应多种处理工艺。
9.采用皮拉尼真空技术，实时检测和显示样品仓的真实真空度，具有1Pa的真空分辨率，能够方便的接入MFC气体流量控制仪，实现对气体流量和真空度的精控制和监测。
10. LED+金属按键控制方式，操作方便稳定可靠。
