垂直模式热膨胀仪 L75 PT VS/VD的开发是为了满足世界各地学术界和实验室研究的需求。该系列热膨胀仪可以精确测定固体、液体、粉末和胶体的热膨胀系数。由于垂直系统的“零摩擦”的设计保证了测量结果的精确，该系统的*的垂直设计非常适合低或超低膨胀系数材料。该系列热膨胀仪能够在真空条件下，氧化性和还原性气氛中测量。
垂直模式热膨胀仪 L75 PT VS/VD该系统可以用于单样品或差示条件下测量以获得更高的精度或样品通量。该系列热膨胀仪的可选机械和电子部件便于拆卸在手套箱中的测量。
新低温炉配件：温度可降至10K
LINSEIS L75垂直超低温操作系统（零摩擦）。该系统提供一个宽泛的温度范围（-260°C ——+220°C ），多种样品支架可选。在真空或程序控制的氧化环境或还原环境中进行测量时，仍能保证高精度和易操作性。
可以测量以下的物理性质：
热膨胀系数，线性热膨胀，物理热膨胀，烧结温度，相变，软化点，热分解温度，玻璃化转变温度。
| 配置 | 单杆或差示热膨胀仪 |
| 温度范围 | -180°C —— 500/700/1000°C |
| RT —— 1000/1400/1600/1650/2000/2400/2800°C | |
| -260°C —— +220°C (液氦) | |
| 加热/冷却速率* | 0.01 K/min —— 100 K/min |
| 样品支架 | 熔融石英 <1100°C |
| Al2O3 <1750°C | |
| 石墨 2000°C | |
| 样品长度 | zui大50 mm |
| 样品直径 | 7/12/20 mm |
| 可调样品压力 | zui大 1000 mN |
| 测量范围 | 500/5000 µm |
| 分辨率 | 0.125 nm |
| 气氛 | 还原、惰性、氧化、静态/动态 |
| DTA计算 | 可选 |
| 电路板 | 集成 |
| 接口 | USB |
* 取决于炉体
