plasma真空等离子清洗机供应商：诚峰智造
真空式等离子处理系统CRF-VPO-MC-6L
名称（Name）
真空式等离子处理系统
型号（Model）
CRF-VPO-MC-6L
控制系统（Control system）
PLC+触摸屏
电源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz,12.5kw
中频电源功率（MF Power）
2000W/40kHz
容量（Volume）
235L（Option）
层数（Electrode of plies）
6（Option）
有效处理面积（Area）
500（L）*500（W）（Option）
气体通道（Gas）
两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2
产品特点：处理空间大，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。
可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。
保养维修成本低，便于客户成本控制。
高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的支持。
应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，工业等。
