直流溅射工作原理：
1.低气压下（一定的真空度）气体的辉光放电现象：
2. 靶材接高压，本设备为-2400V，为负极；样品台接地，为正极；
3. 靶材与样品台之间形成电场，电离气体，可用空气、Ar、N2；
4.气体电离后，正离子飞向负极，轰击靶材，靶材原子被溅射飞出，沉积到样品上形成导电膜；
5.电子或负离子在电场的作用下，飞向样品台，会加热样品，溅射电流10mA，溅射时间1分钟，样品台温度约为60℃
工作特点：溅射电流随压力变化，压力升高，溅射电流才能增加；
压力升高、电流变大、溅射颗粒变大，热损伤随之加剧。
应用领域：非热敏性样品，如无机盐类粉体等，性价比较高
适用于普通钨灯丝扫描电镜、台式电镜等
GVC-1000/1200离子溅射仪
金靶
颗粒尺寸20~50nm
产品特点：
一、安全
1．高压线多重防护，外加8×5透明真空管，安全；
2．外壳良好接地；
3．真空互锁；
4．电流＞50mA，真空度超过100Pa，系统自动切断溅射；
5．实体按键，安全；
6．溅射头采用阻尼设计，任意位置悬停
二、信息量大
1．溅射过程中真空度和溅射电流以曲线方式实时显示，简单直观；
2．靶材使用时间，仪器使用时间系统自动记录，直观了解设备的运行状态。
三、快速上手
设备内置操作向导，在操作人员更换时，无需培训，即可快速熟练操作设备。
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