膜厚检测仪
产品介绍
快速测量，仅需1-2s即可完成一次测量
大范围膜厚测量，可测量膜厚范围从15nm-70μm
常规操作只需点击一个按钮即可运行，操作简便
适用于工业现场，稳定可靠
能够满足膜厚的常规测量，经济实用
产品参数
快速测量：典型12寸晶圆（即直径300mm)
膜厚测量范围：15nm-75μm (对Si上的SiO2样品)
膜层数目：1-4层
膜厚测量重复性：0.1nm(对Si上100nm的SiO2样品)
准确度：2nm或0.4%（对Si上的SiO2样品）
膜厚测试仪，分为手持式和台式二种，手持式又有磁感应镀层测厚仪，电涡流镀层测厚仪，荧光X射线仪镀层测厚仪。手持式的磁感应原理时，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小，来表示其覆层厚度。
台式的荧光X射线膜厚测试仪，是通过一次X射线穿透金属元素样品时·产生低能量的光子，俗称为二次荧光，,在通过计算二次荧光的能量来计算厚度值。
