VTC-1RF是一款小型台式单靶等离子溅射仪(射频磁控型)，配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。
我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜
技术参数
输入电源 | - 220VAC 50/60Hz, 单相
- 800W (包括真空泵）
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等离子源 | - 一个100W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内
- 配有一13.5MHz,100W的射频电源（采用手动匹配）
- 可选配300W射频电源（自动匹配）
- 注意：100W手动调节的RF（射频）电源价格较低，但是每一次对于不同的靶材，都需要手动设置参数才能产生等离子体，比较耗费时间。300W自动匹配的RF（射频）电源，价格较昂贵，但比较节约时间。
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磁控溅射头 | - 一个1英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接
- 靶材尺寸: 直径为25.4mm,大厚度3mm
- 一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）
- 溅射头所需冷却水：流速10ml/min（仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机）
- 同时可选配2英寸溅射头
- 选配2英寸溅射头靶材尺寸：直径为50.8mm，大厚度6mm
  
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真空腔体 | - 真空腔体：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高纯石英制作
- 密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封
- 一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体
- 真空度：<1.0*10-2 Torr （采用双极旋片真空泵）
- <5*10-5 torr （采涡旋分子泵）
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载样台 | - 载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热
- 载样台尺寸：直径50mm （大可放置2英寸的基片）
- 旋转速度：1 - 20 rpm
- 样品台的高加热温度为700℃(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃
- 控温精度+/- 10℃
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真空泵 | 可选用直联式双极旋片泵,也可选用德国制作的分子泵系统  |
薄膜测厚仪 | - 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 ?
- LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据
 
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质保和质量认证 | |
使用注意事项 | - 这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度
- 为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量
- 请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内
 
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