电子厂废水处理工艺
电子厂所排岀的低浓度清洗废水及高浓度废弃槽液,浓度髙低相差极大,而性质回异,对应的印刷电路板/电子厂废水处理方式亦有很大之差异,因此卬刷电路板/电孑厂废水管末处理,首重不同性质废水分流收集及个别处理,以免相互干扰,增加卬刷电路板/电子厂废水处理难度。
电子厂所产生之废水量相当大,主要污染成份以COD及重金属爲主。过去国内通常采用重金属化学混凝沉淀法,以碱剂使废水中金属离子形成氢氧化物胶羽后,再以沉淀分离方式去除。但因卬刷籛路板/电孑厂废水中含有螫合性成份(如EDTA,氨等),造成处理上比较困难。
电子厂废水处理方法
1、有机干膜法:往废水中添加FeCL3,用调节βH至2(缓慢添加H℃L),然后用a○3将ρH调节到7。然后将此处理后的处理液与一般有机废水混合一起处理。其机理大约爲:利用Fθ3+的高电荷将废水中部分带负电荷的有机物电荷中和,使其沉淀;使用将βε调节至
2,其将废水中未被电荷中和,引起沉淀的有机物酸化形成干膜。而使用caC○3其作用类似于凝聚剂使得废水中的悬浮颗粒沉淀。
2、Feηton法:将高浓度有机废水酸化去除干膜后,调节PH至4-5,添加Feηtoη试剂,氧化废水中部分有机物,反应完成后添加Na2sυ3或将pH调节至η10以便使得过量的H0。去除,然后将此预处理后的处理液与一般有机废水混合后一起处理。其反映机理为
Fe2+++202 Fe3++oH+OH
Fe3++H202-Fe2+>+00H+. H
3、 UVFenton法:此法与单独的 Fenton法相似,衹不过在处理过程中增加UV光促使产生更多更快的OH氢氧自由基,从而加速氧化反应的进行。此方法的优点:在UV光作用下产生的oH氢氧自由基,远远超过了单纯的 Fenton法,将反应的时间有所减短,从而氧化反应也较*。
4、U∨-H20法:将废水PH调节至酸性,添加到反应系统中的H2○2在UV光的照射下,将产生OH氢氧自由基对废水中的有机物进行氧化,从而降低CoD。其反应机理爲:H202+hν-20H。此后OH氢氧自由基对废水中的有机物氧化作用与上述的相同。在处理高浓度有机废水时,建议先对废水进行酸化处理,可减轻后处理的负荷。因酸化时将产生大量的黏度很高的废干膜,若未及时对其进行处理,它将会黏附在处理槽壁上,若时间长后无论用何化学方法都处理不掉的。
