NF-300H
HTM PECVD设备
产品特点
- 高产能设计和可实现多种薄膜沉积的快速切换
- 可实现多层SiO2,SiN(ONON)堆叠功能
- 满足300-600℃高温沉积需求
- PM腔内可进行多片wafer沉积和wafer自动升降旋转功能
- 通过S2安全认证
NF-300H
HTM PECVD设备
产品特点
- 高产能设计和可实现多种薄膜沉积的快速切换
- 可实现多层SiO2,SiN(ONON)堆叠功能
- 满足300-600℃高温沉积需求
- PM腔内可进行多片wafer沉积和wafer自动升降旋转功能
- 通过S2安全认证
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