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HTM PECVD设备

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  • 公司名称拓荆科技股份有限公司
  • 品       牌
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  • 所  在  地
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2022/8/30 10:39:08
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拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月,是国家,主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次承担国家重大专项。2016年、2017年、2019年获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。公司于2020年在北京、上海、海宁成立三家子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,拥有自主知识产权,技术指标达到国际同类产品*水平,产品主要应用于集成电路晶圆制造,以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等技术领域。公司在北京、上海、武汉、合肥、天津、中国台湾等20多个地区的近40条生产线都设有技术服务中心,为客户提供每周7天,每天24小时的技术服务。
产品介绍NF-300HHTM PECVD设备 产品介绍NF-300H 设备由拓荆科技承担了国家十三五重大专项,自主研发,拥有自主知识产权。应用于128层及以上3D NAND闪存芯片的生产。可实现SiO2、SiN(ONON)多层薄膜堆叠结构和Thick TEOS 薄膜,在均匀性、颗粒度、粗糙度、应力及产能等方面实现技术突破,设备性能指标达同类产品水平......
HTM PECVD设备 产品信息
产品特点

NF-300H
HTM PECVD设备

产品特点
- 高产能设计和可实现多种薄膜沉积的快速切换
- 可实现多层SiO2,SiN(ONON)堆叠功能
- 满足300-600℃高温沉积需求
- PM腔内可进行多片wafer沉积和wafer自动升降旋转功能
- 通过S2安全认证

 
15700104732
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