该设备是一款带有预热系统的滑动PECVD系统。该系统包含等离子射频电源，预热炉，滑动式管式炉，4通道质量流量供气系统和旋片泵组成。可用于生长纳米或CVD方法来制作各种薄膜。
产品用途：
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。 该系统广泛应用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管（CNT）、石墨烯材料等。是应用于生长纳米线或用CVD方法来制作各种薄膜的一款新的探索工具。
技术参数：
| 产品名称 | 带预热系统滑动式PECVD设备 |
| 滑轨管式炉部分 | |
| 产品型号 | PT-T1200-S06LC |
| 炉管尺寸 | 60*长度1600mm 可选其他直径Φ50，80，100，120，150mm |
| 炉管材质 | 石英管 |
| 加热区 | 双温区，每个温区长度200mm |
| 工作温度 | 1100℃ |
| 温度 | 1200℃ |
| 温控方式 | K型热电偶 |
| 控制方式 | 触屏控制 |
| 控温精度 | ±1℃ |
| 温控保护 | 具有超温和断偶保护功能 |
| 升温速率 | 0-20ºC/min可调 ，建议10ºC/min |
| 加热元件 | 含钼电阻丝 |
| 工作电压 | AC 220V 单相 50HZ （电路电压用户可选择定制） |
| 加热功率 | 3KW |
| 炉膛材料 | 氧化铝多晶纤维 |
| 炉体结构 | 炉体带滑轨，可实现快速升温和降温 |
| 法兰接头 | 标配配有两个不锈钢真空法兰，已安装机械压力表和不锈钢截止阀 |
| 密封系统 | 该炉炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸，气密性好。 |
| 预热炉 | |
| 主要参数 | 温度1100度 ，多段程序控温，可将固体和液体原料放在预热炉中，气化后与气体原料相混合 |
| 真空系统部分 | |
| 主要参数 | 采用机械，可实现炉管内的真空 |
| 气路系统部分 | |
| 名称 | 四路质量流量计（量程可选） |
| 等离子电源部分 | |
| 功率范围 | 0-500W（连续可调） |
| 售后服务 | 质保一年，终身保修（耗材类：高温密封圈、炉管、加热元件等及人为损坏不属于质保范围） |
| 更多规格可根据客户需求定制 | |
