的解决方案
Leica EM RES102是一款的离子束研磨设备，带有两个鞍形场离子源，离子束能量可调，以获得离子研磨结果。这一款独立的桌面型设备集 TEM，SEM和LM样品制备功能于一体，这与市面上其它设备截然不同。除了高能量离子研磨功能外，徕卡EM RES102还可 用于低能量极温和的离子束研磨过程。
- TEM 样品：
- 单面或双面离子束研磨适用于材料的离子束减薄过程。鞍形场离子源可获得很大的电子束透明薄区。
- 程序化控制的离子入射角度变化，适用于完成特殊的样品制备目的，例如FIB样品清洁，以减少无定形非晶层。
- SEM 或 LM 样品：
- 离子束抛光抛光区域可达25mm。
- 离子束清洁适用于对样品表面污染层或机械抛光后表面产 生的涂抹层进行清洁。
- 样品表面衬度增强作用，可替代化学刻蚀作用。
- 35°斜坡切割用于制备多层样品的截面。
- 90°斜坡切割用于制备复合结构的半导体样品或组装器件，这种方式所需的机械预加工工作最少。
为了支持多样化的应用需求，Leica EM RES102 可以装配各种样品台以适用于TEM，SEM及LM 样品制备。预抽室系统实现样品快速交换，从而可有效提高样品交换效率 。
带给您的好处
Leica EM RES102 可对样品进行离子束减薄，清洁，截面切割，抛光以及衬度增强，这极大满足了您对应用需求的多样化和便利性。
- 操作简便
- 19”触摸屏电脑控制单元，监控并记录制样过程
- 内置应用参数库
- 程序化制样参数设定，加速初学者学习曲线
- 帮助文件帮助初学者以及对设备进行维护
- 高效/节约成本
- TEM，SEM和LM应用功能集于一体
- TEM样品制备获得的薄区大，有效提高了TEM样品制备效率
- SEM样品制备可达25mm样品直径
- 预抽室系统帮助快速交换样品，减少等待时间，并保证了样品室的持续高真空
- 局域网功能方便远程操控
- LN2样品台使得温度敏感型样品可在优化条件下进行离子研磨
- 安全
- 精确的自动终止功能，适用于光学终止或透明样品的法拉第杯终止
- 在制样过程中可以时时存储活图像或视频
- 离子源和样品运动马达驱动，程序化控制，因而可获得重复性制样结果
主要功能
对无机薄片样品进行离子减薄，使得薄片样品可被透射电子穿过，从而适宜TEM透射电子显微镜观察；对无机块状样品进行离子束抛光、离子束刻蚀，样品表面离子清洗及斜坡切割，便于SEM扫描电子显微镜观察样品内部结构信息。
优异性价比
一台设备即可为TEM、SEM、LM电镜检测提供试样，多种应用功能集于一体，高效并节约成本安全；所有机械控制、样品移动实现全自动化，可获得重复性制样结果分段冷却；对温度敏感样品得到充分保护，在优化条件下进行离子研磨，保持样品的原生态操作简便；内置应用参数库，帮助文件，无论是初学者还是后期维护都十分简单。
| 仪器参数 | ||
|---|---|---|
| 离子源 | 离子枪 | 两把鞍形场离子枪，离子研磨区域大 |
| 离子能量 | 0.8 kev 至 10 kev (0.1keV每步) | |
| 离子束流 | 4.5 mA （每把离子枪） | |
| 离子束流密度 | 8kV/3mA条件下约1mA/cm2（每把离子枪） | |
| 离子束半高宽FWHM | 10keV 条件下0.8mm，2keV 条件下2.5mm | |
| 使用气体 | 氩气 (Ar 5.0) 进气气压 500 mbar | |
| 气体流速 | 每把离子枪小于1 sccm，自动控制 | |
| 倾斜角度设定（电脑控制） | 离子枪1倾斜 | ± 45°（精确度为0.1°） |
| 离子枪2倾斜 | ± 45°（精确度为0.1°） | |
| 样品台倾斜范围 | –230° 至 100°（精确度为0.1°） | |
| 离子研磨角度范围 | –90° 至 90° (角度与不同样品台有关) | |
| 样品移动范围（电脑控制） | 旋转速率 | 0.6 至 10 rpm |
| 摆动范围 | 360°，每步1° | |
| 零位设置 | 每步1° | |
| X方向移动 | ±5mm，精确度0.1mm | |
| 倾斜范围 | -230°至 100° | |
| 装载样品尺寸 | SEM样品台样品尺寸 | Ø 25 mm × 12 mm |
| SEM样品台离子研磨区域 | Ø 25 mm | |
| TEM和FIB样品台样品尺寸 | Ø 3 mm 或 Ø 2.3 mm | |
| SEM薄片样品台样品尺寸 | 5 mm (H) × 7 mm (W) × 2 mm (D) | |
| SEM斜坡切割样品台样品尺寸 | 5 mm (H) × 5 mm (W) × 3 mm (D) | |
| 冷冻装置 （选配） | 自动液氮制冷接触装置 | |
| 自动加热装置避免潮湿污染样品 | ||
| LN2 消耗量 约0.6L/h | ||
| 操作控制（用户界面） | Windows 7操作系统，19英寸触摸屏电脑控制 | |
| 具有局域网远程控制和监视功能 | ||
| 内置应用程序库 | ||
| 可个性化修改和存储离子研磨参数，单个程序使用或者组合程序序列 | ||
| 真空系统 | 无油真空系统，＜1×10-5mbar，配置4段式隔膜泵和涡轮分子泵（70 L/s） | |
| 配置预抽真空室，样品交换时间小于1分钟 | ||
| 真空检测 | 全程范围真空检测，Pirani真空计检测低真空，冷阴极检测高真空 | |
| 观察系统 | 数字CMOS彩色摄像头，带自动放大观察功能，自动光圈调整和自动聚焦 | |
| 可实时存储图像和录像 | ||
| 离子束感光功能（伪彩色图像），用于精确调整离子枪对中 | ||
| 自动终止离子束加工过程 | 通过时间终止 | |
| 对于不透明样品的光学终止 | ||
| 对于不透明和透明样品的法拉第杯终止（选配） | ||
| 电气参数 | 电压 | 90至260 VAC, 50/60 Hz |
| 功率 | 400 W | |
