电镜样品等离子清洗 & 高真空样品保护腔 GV/GA
GV/GA是用于清洗和储存SEM&TEM电镜杆的高真空处理腔。使用A05型GV/GA DS等离子清洗器可以极大的减少EM腔体中沉积的碳氢化合物污染。GV10x安装在灰化器上，通过等离子灰化处理，EM腔体的污染能得到明显改善。通过温和的氧离子灰化处理可对样品和TEM电镜杆表面进行很好的清洗且不对样品产生损伤，详细介绍参考文献： Cleaning TEM Samples on Carbon Films Microscopy-Today January 2014 for a detailed discussion.
等离子清洗机通过加速离子从而达到溅射或者刻蚀样品，而GV/GA中使用氧原子或氢原子通过化学反应消除碳氢化合物。整个过程中并没有热量或者离子轰击产生。氧气将碳氢化合物转化为CO2 CO 或 H2O分子从而通过真空泵抽走。因此，整个处理过程能有效消除碳氢化合物而绝不会损坏样品。
建议使用60l/m的真空泵和80l/s的TMP。
Bench Top A05 GA Chamber P5 Source 2U A05 GA Chamber P5 Source
特点：
• 新型腔体 A05结合GV10X等离子清洗机使用，使用两种控制器，Bench Top可以直接在控制器上设置参数。2U需要连接电脑使用• 适用于所有TEM的电镜样品杆
• 适用于从腔体前面插入清洗
• 可同时清洗和保存3个电镜杆
• 有效保存样品防止高分辨率成像退化
• 防止样品因SEM&TEM腔体污染导致内部显微结构中产生气相
• 操作简单，使用极为方便。
