一、电子芯片清洗用超纯水设备-50T/H概述
电子芯片清洗用超纯水设备-50T/H的产水量是每小时50吨，出水水质满足工业清洗行业用水要求。电子芯片清洗用超纯水设备主要由超滤设备、反渗透设备、离子交换设备、EDI装置等组合而成。
二、电子芯片清洗用超纯水设备-50T/H的优势分析
1、工艺的设计细微周到，元件的材质、性能、设计的流量、流速、压力等均符合国家的标准规范及国外材料商的规定要求。
2、制水过程高度自动化，自动进水，自动制水，纯水箱满水自动停机，用水后自动恢复，可*实现无人值守的运行。
3、可选用可编程控制(PLC)，计算机触摸屏控制，远程数据采集及监控等*技术，使产品更具现代化特色。
三、电子芯片清洗用超纯水设备-50T/H的工艺流程
1、采用两级反渗透方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点。
2、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点。
3、采用离子交换方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点。
四、电子芯片清洗用超纯水设备-50T/H的技术指标
(1) 脱盐率大于99.9%，效率远远高于两级反渗透和单纯的离子交换。
(2) 较传统的离子交换法脱盐节约树脂95%以上。
(3) 离子交换树脂不需使用酸碱再生，节约大量酸碱和清洗用水，降低劳动强度。
(4) 清洁生产，无废水处理问题，利于环保。
(5) 自动化程度高，易维护，可设计成完善的膜技术高纯水生产线。
(6) 产水电阻率15-18MΩ.cm，pH 6.5-7.0，硅<1.0ppb，*无菌。
(7) 占地面积小，单一系统连续运转，不需建设备用系统。
五、电子芯片清洗用超纯水设备-50T/H的水质指标
| 型号 | 电阻率 | 氧化矽 | 重金属 | KMnO4 | 钠 | 氨 | 微生物 | PH值 |
| CAP-Ⅰ | ≥10 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.1 | 0.1 | 微少 | 6-7 |
| CAP-Ⅱ | 0.5 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.01 | 0.01 | 微少 | 6-7 |
| CAP-Ⅲ | 0.2 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.1 | 0.1 | 微少 | 6-7 |
| NCCLS | ≥10 | 0.05 | —— | —— | —— | —— | 10 | —— |
电子芯片清洗用超纯水设备运行稳定，耗能低，产水水质符合国家相关水质标准。莱特莱德作为专业的水处理设备生产厂家，我们生产的超纯水设备具有专业的技术优势和可靠性。莱特莱德是集设计、制造、销售于一体的大型水处理生产厂家，我们售后服务好，品质有保证，欢迎广大用户光临选购。
