连续进出料等离子体增强回转PECVD设备-TF-1200℃-RP-PECVD

　　1、主要特点

　　该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下实现工艺，PECVD系统能使整个实验炉体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间，所有物料经过的管道都选用非金属材质，如：进出料炉体选用石英材质，推料杆选用石英及聚四氟材质。

　　2、结构与原理图：

结构图

设备组成：加热系统，Plasma系统，进料系统，出料系统，气体控制系统，低真空系统，气料分离系统，过滤系统，炉管转动系统，电控操作系统。

　　(1)加热系统：

　　该加热系统的加热炉体采用氧化铝纤维制品，其极低的热导率和比热容，保证了炉膛的快速升温和低蓄热，可用于科研单位的材料工艺研究。加热元件选用电阻丝加热，适合中低温度加热系统。高温真空电阻炉温度控制系统采用经典的闭环负反馈控制系统，控温仪表选用智能型程序温度调节仪表控温，电力调制器控制;负载采用小电压大电流控制，从而大大提高了加热元件的寿命，测温元件采用K型热偶。采用单回路温控仪能够自整定PID 参数，无须操作人员的干预，可自行根据不同温度曲线的升、降温要求调整输出信号，同时系统设置了超温、欠温、断偶报警保护功能，大大降低了对操作人员经验的要求。

　　(2)Plasma系统：

本系统借助于辉光放电产生等离子体，辉光放电等离子体中，电子密度高，通过反应气态放电，有效利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式。

　　(3)进料系统：

　　送料系统速度连续可调，停止送料且炉体倾斜额定时，物料不会从送料系统外漏，送料系统方便拆卸，拆卸后可手动加料，设备可正常运行。

　　(4)出料系统：

　　出料系统在炉体倾斜出料时可自动出料。

　　(5)气体控制系统：

　　该控气系统是可以控制两种气体按照不同流量进行混合配比的，也可以独立控制，质量流量计安装于密封的可移动的机柜内，由超洁双抛不锈钢管与精密双卡套接头连接组成。

　　(6)低真空系统：

　　该系统配备真空机械泵，可以抽真空，可以让设备在真空环境下进行反应。

(7)气料分离系统：

　　该系统可以让设备在充气体保护或者抽真空时，实现气体与物料的分离。

　　(8)过滤系统：

　　该系统可防止物料进入真空泵，保证真空泵的正常运行。

　　(9)炉管转动系统：

　　炉管转动系统可以让炉管360°匀速转动，转速在0-60r/min连续可调，且能在60r/min转速下长时间运行。

　　3、技术指标：

　　(1)该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀;

　　(2)整个电炉和送料、收料系统能够一起倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间可调;

　　(3)送料系统送料速度连续可调，停止送料且炉体额定倾斜时，物料不从送料系统外漏。送料系统方便拆卸，拆卸之后可以手动加料，设备可正常运行。

　　(4)炉管回转稳定，不会上下左右跳动;转速在0~60r/min连续可调，能在60r/min转速下连续长期运转(>24h)。

　　(5)电炉转速，加料速度，倾斜角度，真空度，气体流量，温度，运行时间，等离子体功率等参数都用数字显示，并在运行过程记录设备整个运行轨迹及上述参数(在工控及独立电脑上均能实现);

　　(6)设备运行可分为手动模式与自动模式;自动模式下可实现高度自动化运行，所有参数程序设定好后自动运行：可实现按照设定程序连续工作，可设置多工作段不同参数，并可进行某工作段循环工作及某程序循环工作;