Sigma产品系列结合了场发射和扫描电子显微镜技术(FE-SEM)。
其**的特点是其*的成像和分析性能。
有了西格玛，你将通过使用诸如
集成气闸，*的EDS几何结构和直观的工作流程只有四个步骤。
Sigma为您提供*分辨率成像的探测器技术。
这种显微镜是设计用来处理不同操作的
条件和可以适应，以*地适合您的应用。
Sigma生产*质量，清晰，*对比度的图像-从纳米粒子和纳米纤维到半导体和MEMS组件，一直到太阳能电池。
它为您提供了地形、成分、晶体学和元素分布的信息，用于*的样品表征。
根据您的需求配置
决议
0.8 nm 30kv (STEM)
在15千伏下0。8nm
1千伏下的1.6 nm
2.0 nm, 30kv (VP模式)
加速电压
0.02 - 30kv
样品目前
4pa - 20na (100na可选)
放大
10 - 1,000,000 ×
电子发射器
肖特基场发射体
标准探测器
Inlens SE, ETSE检测器，VPSE-G4 (VP模式)
简单。更聪明。更多的集成。
•自动化的工作流程引导您一步一步地提*您的生产力。
•西格玛为您提供*的分析性能，特别是在处理束敏样品时。
•集成气闸可以实现*达5”尺寸的晶圆的*样品吞吐量。
•结合静电和磁场优化光学
同时降低场对试样性能的影响。
•用于SE和BSE信号的Inlens Duo探测器可以让您在单个探测器中获取地形和成分信息。
•gemini束流助推器技术允许小束流直径和*信噪比，即使在极低的加速度电压下。
为您的应用程序创建
分析所需材料和制造部件
损伤微结构和MEMS部件的*分辨率的地形信息。
•实时创建精密加工部件的3D表面测量，以确定断裂和缺陷的原因。
•使用广泛的检测器来创建*分辨率
纳米材料的图像和分析。
•分析涂层和薄膜，揭示非导电颗粒隐藏的表面细节。
•使用笛卡儿电动平台在腔室中处理大型金属样品，用于原位等离子体清洗，以保持*图像质量，获得结晶和沟道
对比。
•sigma的大气闸允许您快速更换半导体和电子样品上的晶圆。
用*倍放大率拍摄元素层的地形图像
