对于工程师来说，识别介质/平面基底的纳米级缺陷的任务是一个非常耗时的过程，Park NX-HDM原子力显微镜系统可以自动缺陷识别，通过与各种光学仪器的联用可以提高缺陷检测效率，越来越多的行业需要超平的介质和基板来满足不断缩小的设备需求，Park NX-HDM原子力显微镜系统具有业界0.5埃噪音，并将与其真正的非接触式模式相结合实现亚埃级表面粗糙度的测试。
基本技术参数
200 mm电动XY平台 | 电动Z平台 | 噪音 |
行程可达150mm x 150mm, 2 μm重现性 0.095nm分辨率 | 25 mm Z行程距离 0.1μm 分辨率 小于1μm 重现性 | 小于 0.5 μm/s |
尺寸&重量 | 控制箱 | 设备需求环境 |
880（w）x 880（d）x 880（h） 620kg | 600（w）x 900（d）x 1330（h） 170kg | 室温10 ℃~40 ℃ 操作18 ℃~24 ℃ 湿度 30%~60% |
主要功能
1) 快速自动缺陷检测功能
2) 亚埃级表面粗糙度的测量
3) 有最小的热漂移，自动分析测量的数据
4) 在线监测测试过程，
应用
自动检测缺陷
相关文献
Foucher; R Therese; Y. Lee; S.-I. Park; S-J. Proc. SPIE 8681,Metrology, Inspection, and Process Control for MicrolithographyXXVII, 868106 (April 18, 2013); doi:10.1117/12.2011463
