JELIGHT UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗机
简介
UV+O(原子氧)清洁法是一种光敏氧化过程，其中光抗蚀剂、树脂、人体皮肤油、清洁溶剂残留物、硅油和助熔剂的污染物分子通过短波紫外线辐射的吸收被激发和/或解离。分子氧经184.9nm分解，臭氧经253.7nm分解，同时生成原子氧。
253.7nm辐射被大多数碳氢化合物和臭氧吸收。污染物分子的这种激发产物与氧原子反应，形成更简单的挥发性分子，从表面解吸。因此，当两种波长同时存在时，原子氧不断产生，臭氧不断形成和破坏。
通过将适当的预清洁样品放置在臭氧产生UV源的5毫米范围内，例如UVO-Cleaner®内部的低压汞蒸汽网格灯，可以在不到一分钟的时间内实现接近原子清洁的表面。此外，该工艺不会损坏MOS栅氧化物的任何敏感器件结构。
ufo - cleaner®是去除硅，砷化镓，石英，蓝宝石，玻璃，云母，陶瓷，金属和导电聚酰亚胺水泥中的有机污染物的，的方法。它的建造寿命长，维护成本低，服务。
应用程序:
•在薄膜沉积/剥离和稳定光刻胶之前清洗衬底
•硅片、透镜、反射镜、太阳能电池板、冷轧钢、惯性制导子组件和GaAs晶圆的清洗
•焊剂、混合电路和平板LCD的清洗
•蚀刻Teflon®，Viton®和其他有机材料
•增强GaAs和Si的氧化钝化表面
•减少玻璃的放气
去除晶圆胶带
•提高涂料对塑料的附着力
•测试后从晶圆上去除油墨
•剥离光刻胶
•从光刻板中去除潜在图像
•清洗光刻版
•在硅片上生长氧化层
•在包装/粘合前清洗电路板
•增加表面亲水特性
•生物科学应用的清洗和灭菌
•清洗电子显微镜探针/载玻片或光纤/透镜
紫外清洗优点
1. 被清洗的表面除了光子，不与任何物体发生接触，有机物经过紫外光照射发生光敏氧化反应后，生成可挥发性气体 （CO2、CO、H2O） 等从表面消散，随着排风系统抽走。
2. 表面洁净度高，且不会像溶液清洗时发生二次污染。
3. 光清洗的表面不会受到损伤，由于光子的能量相对比氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量小，光清洗后的表面不会受到损伤或发生晶体缺陷的现象。
4. 光清洗对物体表面微细部位（如孔穴、微细沟槽等）具有有效而的清洗效果。 由于紫外光是纳米短波紫外线，能够射入材料表面的极为细微的部位，发生光敏氧化反应，充分表现出光清洗的性。
可选设备：
所有装置均配有臭氧杀灭器和鼓风机套件，无需外部排气即可使用该装置。臭氧杀手将解离排气中的微量臭氧，而鼓风机将增加排气流量。
单位尺寸可根据客户需求定制。可能需要支付额外费用。
设备提供以下电源配置：
120V/60Hz 220V/50Hz
220V/60Hz
100V 50/60Hz
**臭氧浓度以及样品与紫外线源之间的距离会极大地影响清洁速率。
Outer Dimensions
Length Width Height Exhaust Port Media Inlet Port (2x)
350 mm 220 mm 225 mm 50.8 mm 9.5 mm
Tray Dimensions
Width Length Height (Adjustment Range)
165 mm 165 mm] 6 mm ~ 38 mm
Grid Lamp
Type Average Intensity Distance Measured Away From Lamp
Low Pressure Mercury (Hg) Vapor 28 ~ 32 mW/cm² @ 253.7 nm .12” ~ .20” [3 ~ 5 mm]
Electrical Characteristics
Output Power
Voltage Current
6000 Vpeak-peak 30 mA
Available Input Power Requirements
Model Voltage Frequency Current
42 120 VAC 60 Hz 2.0 A
42-220 220 VAC 50 Hz 3.0 A
42-220-60 220 VAC 60 Hz 2.0 A
42-100 100 VAC 50/60 Hz 2.0 A
42 W/ ELAPSE TIMER 120 VAC, 220VAC 60 Hz, 50Hz 2.0 A, 3.0A
