全自动二维或三维测量弯曲、弧度、坡度和表面曲率，
软件模块用于计算硅片和玻璃基板的薄膜应力（晶圆应力）




 

应用
平板扫描用于非接触式测量各种反射表面的平整度、波纹度、平均半径和薄膜应力，如硅片、镜子、X射线镜（Goebel镜）、金属表面或抛光聚合物。光学测量原理确保了高精度。它是基于测量垂直入射激光束沿等宽直线的反射角。通过测量点之间反射角的变化，可以精确地计算出表面形状。对于某些应用，反射角本身很有趣。因此，软件还提供了这种测量选项。
对于半导体技术中的应用，涂层中的薄膜应力可以通过测量涂层前后的半径来计算。

大测量区域
所用测量原理的一个特点是它独立于测量领域。
因此，在不降低精度的情况下，可以任意增大标准测量区域直径200毫米。

测量精度高
平板扫描具有较高的测量精度。测量系统的分辨率为0.1弧秒。表面形状再现性达100nm。

测量范围大，工作距离大
测量范围是可以在一次扫描中测量的箭头高度（或最小可测量曲率半径）。平面扫描的特点是测量范围非常大，这是无法实现与竞争性的测量方法，如条纹干涉仪。
因此，平面扫描适用于测量具有强曲率的表面，如Goebel反射镜、硅片或其他。使用的光学测量原理工作时与工作距离无关，保证了较高的工作距离，因此不存在损坏试样的危险。

可选二维或三维测量
可选，根据设备类型，可以完成单线扫描或完整的3D扫描。
三维扫描是由许多具有自动样本定位的单行扫描组装而成的。
该软件为测量结果的图形和数字表示提供了所有的可能性，如三维表示、剖面图和测量协议。

薄膜应力计算软件模块
对于半导体技术和所有应用，在完成表面改性（如涂层或涂层去除）的情况下，软件配备了用Fowkes理论计算薄膜应力的模块。通过这种方法，平板扫描可以快速而容易地测量薄膜应力。 薄膜应力是根据涂层前后的平均曲率半径计算出来的。

技术参数
再现性表面曲率（p-v）：小于100纳米
光学测量系统的分辨率：0.1弧秒
光学测量系统精度: 1弧秒
测量速度: 10毫米--30毫米/秒
测量区域：标准直径200 mm
试样厚度：不限

最小曲率半径和根据扫描长度确定的箭头高度：
200毫米：R=18米290微米，
300毫米：R=25米435微米，
500毫米：R=43米725微米

自由工作距离：不限
测量波长：标准670纳米
自动顺序测试