离子研磨仪 IM4000II

高效率的截面研磨

IM4000II配备截面研磨能力达到500 µm/h*1以上的高效率离子枪。因此，即使是硬质材料，也可以高效地制备出截面样品。

• *1

• 在加速电压6 kV下，将Si片从遮挡板边缘突出100 µm并加工1小时的深度

    样品：Si片（2 mm厚）
                                                                              加速电压：6.0 kV
                                                                              摆动角度：±30°
                                                                              研磨时间：1小时

截面研磨时如果摆动的角度发生变化，加工的宽度和深度也会发生变化。下图为Si片在摆动角度为±15°下进行截面研磨后的结果。除摆动角度以外，其他条件与上述加工条件一致。通过与上面结果进行对比后，可发现加工的深度变深。
对于观察目标位于深处的样品来说，能够对样品进行更快速的截面研磨。

样品：Si片（2 mm厚）
                                                                    加速电压：6.0 kV
                                                                    摆动角度：±15°
                                                                    研磨时间：1小时

复合型研磨仪

• *1 将Si片从遮挡板边缘突出100 µm并加工1小时的深度。

• *2 需与主机同时订购。冷却温度控制功能在使用时，部分功能可能使用有限。