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日立离子研磨仪标准机型IM4000Ⅱ能够进行截面研磨和平面研磨。还可通过低温控制及真空转移等各种选配功能，针对不同样品进行截面研磨。
品 牌：Hitachi
产 地：日本
低温控制功能：将液氮装入杜瓦罐中，以此作为冷却源间接冷却样品。IM4000Ⅱ配有温度调节控制功能，以防止树脂和橡胶样品过冷。
真空转移功能：离子研磨加工后的样品可以在不接触空气的状态下直接转移到SEM*1、AFM*2上。真空转移功能与低温控制功能可同时使用。（平面研磨真空转移功能不适用低温控制功能）。
日立离子研磨仪能够进行截面研磨和平面研磨。还可通过低温控制及真空转移等各种选配功能，针对不同样品进行截面研磨。
离子束加工是在真空条件下，离子枪中低压惰性气体离子化，出射的阳离子又经加速，获得具有一定速度的离子束投射到样品表面，由于离子带正电荷，其质量比电子大数千、数万倍，所以离子束比电子束具有更大的撞击动能，靠微观的机械撞击能量加工样品。
高效率的截面研磨
配备截面研磨能力达到500 µm/h*1以上的高效率离子枪。因此，即使是硬质材料，也可以高效地制备出截面样品。
复合型研磨仪
截面研磨
即使是由不同硬度以及研磨速度材质所构成的复合材料，也可以通过IM4000Ⅱ制备出平滑的研磨面优化加工条件，降低因离子束所致样品的损伤。
可装载20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的样品
截面研磨的主要用途
金属以及复合材料、高分子材料等样品的截面制备
含有裂缝和空隙等特定位置的样品截面制备
多层样品的截面制备以及对样品EBSD分析的前处理。
平面研磨
直径约为5mm范围内的均匀加工
应用领域广泛
可装载直径50 mm × 高度25 mm的样品
可选择旋转和摆动（±60度，±90度的摆动）2种加工方法
平面研磨的主要用途
去除机械研磨中难以消除的细小划痕和形变
去除样品表层部分
消除因FIB加工所致的损伤层
