仪器技术参数
Compact WLI | |
测量技术 | 白光干涉 |
算法 | 垂直扫描结合相移 |
扫描器 | 精密压电陶瓷驱动， 闭环反馈电容控制精密压电陶瓷 |
扫描范围 | 400 µm |
扫描速度 | 150 µm/s |
系统软件 | smartVIS 3D / Speedytec on GPU |
分析软件 | Trimos Nanoware Analyse |
测量阵列 | 1936 x 1216 测量点 |
传感器重量 | 约2 kg |
供电要求 | 100 to 240 VAC, 50/60 Hz |
镜头技术参数
技术参数 | WLI 2.5x | WLI 5x | WLI 10x | WLI 20x | WLI 50x | WLI 100x |
垂直分辨率 | 0.1 nm | 0.1 nm | 0.1 nm | 0.1 nm | 0.1 nm | 0.1 nm |
横向分辨率 (X/Y) | 4.81 µm | 4.81 µm | 1.2 µm | 0.9 µm | 0.66 µm | 0.52 µm |
垂直测量范围 | 400 µm | 400 µm | 400 µm | 400 µm | 400 µm | 400 µm |
测量面积 （XY） | ~4536 µm x ~3447 µm | ~2268 µm x ~1723 µm | ~1134 µm x ~861 µm | ~567 µm x ~430 µm | ~226 µm x ~172 µm | ~113 µm x ~86 µm |
放大倍数 | 2.5x | 5x | 10x | 20x | 50x | 100x |
工作距离 | ~10.3 mm | ~9.3 mm | ~7.4 mm | ~4.7 mm | ~3.4 mm | ~3.4 mm |
最小可测Ra | NA | NA | < 80 nm | < 20 nm | < 5 nm | < 5 nm |
工作台技术参数
选配工作台 | |
标准 | 手动XY工作台 73 x 55 mm² 手动Z轴调节，粗调范围70 mm, 精调范围1.9 mm, 倾斜调整+/-3° 自动Z轴扫描，扫描范围400 µm |
手动 | 手动XY工作台25 x 25 mm² 手动Z轴调节，粗调范围70 mm, 精调范围1.9 mm, 倾斜调整+/-3° 自动Z轴扫描，扫描范围400 µm |
电动 | 电动XY工作台 75 x 50 mm²,自动拼接 手动Z轴调节，粗调范围70 mm, 精调范围1.9 mm, 倾斜调整+/-3° 自动Z轴扫描，扫描范围400 µm |
分析软件
Nanoware 2.0分析软件
根据不同的应用需求，Nanoware分析软件有不同版本及模块可供选择：
一共有5种软件版本：
l 2D： LT和XT
l 3D：STT、XTT和PRO
各版本软件可选的软件模块：
l LT：轮廓模块、统计模块
l XT：轮廓模块、轮廓模块、统计模块
l STT：轮廓模块、统计模块
l XTT：轮廓模块、轮廓模块、统计模块
l PRO：轮廓模块、统计模块
可导出的2D、3D文件格式：
l 2D：.PRO/.PRF/.PIP/.UA2/.TXT/.SMD
l 3D：.SUR/.UA3/.TXT/.SDF/.STL
Trimos® NanoWare LT
2轴测量基本模块。包含2D轮廓和粗糙度分析的基
本功能，符合ISO 4287标准。
l 2D轮廓和粗糙度 (Ra, Rz，...)
l 轮廓校平、镜像
l 除去形状、微粗糙度滤波、标准滤波
l 提取感兴趣的轮廓区域
l 粗度和波度分离
l 水平距离和高度测量
l 孔和顶点面积测量
l 公差极限（合格/不合格）显示
Trimos® NanoWare XT
2轴测量基本模块。 包含2D轮廓和粗糙度分析的基
本功能，符合ISO 4287标准。
l 2D轮廓和粗糙度 (Ra, Rz，...)
l 轮廓校平、镜像
l 除去形状、微粗糙度滤波、标准滤波、
形态滤波
l 提取感兴趣的轮廓区域
l 粗度和波度分离
l 水平距离和高度测量、阶跃高度测量
l 孔和顶点面积测量、分形分析
l 公差极限（合格/不合格）显示
l 填充非测量点、设置阈值、轮廓修描
l 轮廓合并、创建系列轮廓
l 重采样
l 轮廓相减、轮廓自相关、两个轮廓相互关联
l 频率分析（频谱图和平均功率谱密度）
l 功能分析（Abbott曲线、Rk参数、Rk轮廓）
Trimos® NanoWare STT
3轴测量基本模块. 包含分析轮廓的所有功能及
符合ISO 25178表面分析
l 3D基本参数(Sa, Sq, St, Smr, ...)
l 表面校平、镜像、旋转
l 空间滤波器、填充非测量点、设置阈值、修
描表面点
l 除去形状、标准滤波器
l 提取感兴趣区域、提取轮廓
l 重采样
l 3D视图、伪色视图、照片模拟
l 水平距离和高度测量、阶跃高度测量
l 顶点计数分布、孔和顶点体积测量
l 频率分析（平均功率谱密度）
l 功能分析（Abbott曲线、切片）
l 公差极限（合格/不合格）显示
Trimos® NanoWare XTT
适合于表面结构功能性及分析需求. 此模块覆盖
STT版本并包含XT模块所有2D分析功能
l 3D基本参数(Sa, Sq, St, Smr, ...)
l 表面校平、逐行校平、镜像、旋转
l 空间滤波器、填充非测量点、设置阈值、修
描表面点
l 除去形状、标准滤波器、过滤频谱、设置频
谱阈值、傅里叶变换、形态滤波
l 提取区域、提取轮廓、转换成系列轮廓
l 拼接
l 重采样
l 两个表面相减、表面自关联运算、两个表面
相互关联运算
l 3D视图、伪色视图、照片模拟、等高线
l 水平距离和高度测量、阶跃高度测量
l 岛屿分析、顶点计数分布、分形分析、孔和
顶点体积测量
l 频率分析（纹理方向、频谱、平均功率谱密
度、纹理均质性）
l 功能分析（Abbott曲线、Sk参数、体积参
数、切片）
l 公差极限（合格/不合格）显示
Trimos® NanoWare PRO
市场上2D及3D表面特征评估完整版本. 此模块
综合了表面测量领域15年以来的经验, 是专业用
户
l 3D基本参数(Sa, Sq, St, Smr, ...)
l 表面校平、逐行校平、分区校平、镜像、旋转
l 空间滤波器、填充非测量点、设置阈值、纠正
行、修描表面点、反褶积
l 除去形状、标准滤波器、过滤频谱、设置频谱
阈值、傅里叶变换、子波转换、形态滤波
l 提取感兴趣区域、提取轮廓、二进制遮罩
l 转换成系列轮廓、二进制阈值设置、二进制分割
l 拼接
l 重采样
l 两个表面相减、表面自关联运算、两个表面相互
关联运算
l 3D视图、伪色视图、照片模拟、等高线
l 水平距离和高度测量、阶跃高度测量
l 表面图形分析（ISO 25178检测算法）、微波
谷网络相关参数分析、岛屿分析、顶点计数分
布、分形分析、孔和顶点体积测量、单个波谷
深度测量
l 频率分析（纹理方向、频谱、平均功率谱密度、
纹理均质性）
l 功能分析（Abbott曲线、Sk参数、体积参数、
切片）
l 公差极限（合格/不合格）显示
