抗电磁干扰匀胶机KW-4A-CE型匀胶机适用于微电子、半导体、制版、新能源、生物材料、光学及表面涂覆等工艺，主要应用于溶胶-凝胶（sol-gel）实验中的薄膜制作，其工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂布在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。
抗电磁干扰匀胶机简介：
匀胶机又称甩胶机、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、真空镀膜机，其总体由在国际上SOL-GEI技术**的美国凯美特技术公司(CHEMAT TECHNOLOGY, INC) 设计完成。其主要关键元器件由美国进口，整机装配由上海凯美特公司安装调试完成。新型凯美特抗电磁干扰匀胶机KW-4A-CE秉承了凯美特（Chemat）匀胶机的传统优势，并新增了抗电磁干扰的功能。该性能的具体表现为：当该匀胶机在运转时，它不影响同处一室的其他设备，以保证其他设备的正常使用（如指针不漂移等受干扰后有影响的反应）；同时它本身也不会受到其他同处一室的设备运转而产生的磁场的干扰。从而保证实验效果的稳定性和可靠性。另外由于本公司采取了一些特殊的工艺手段，保证了转盘转动时平稳性， 从而保证了制备出来的膜层厚度均匀性。上述证明凯美特公司的匀胶机能使实验具有良好的重复性、一致性、稳定性。由于美国CHEMAT公司从1990年以来一直从事于溶胶-凝胶（SOL-GEL）技术、工艺、及设备的研究、开发。
抗电磁干扰匀胶机KW-4A-CE型匀胶机适用于微电子、半导体、制版、新能源、生物材料、光学及表面涂覆等工艺，主要应用于溶胶-凝胶（sol-gel）实验中的薄膜制作，其工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂布在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。
抗电磁干扰匀胶机KW-4A-CE规格：
SpeedⅠ调速范围：500—2500转/分
TimerⅠ匀胶时间： 3—18秒
SpeedⅡ转速范围： 800—8000转/分
TimerⅡ匀胶时间： 3—60秒
转速稳定度： ±1%
电源电压（二种）： 220v/ 50Hz或110v /50Hz
电机功率： 40W
