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实验型磁控溅射镀膜机(直流/中频/射频/离子源)

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  • 公司名称广东汇成真空科技股份有限公司
  • 品       牌
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  • 所  在  地
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2023/11/2 12:25:50
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广东汇成真空科技股份有限公司是一家面向的真空应用解决方案提供商,研发、生产和销售各类光学镀膜设备、功能性薄膜涂层设备、装饰涂层设备、卷绕镀膜设备、汽配镀膜设备、连续式磁控溅射镀膜生产线、超高真空系统等真空设备、半导体设备、电子生产设备、光电设备、光伏设备、动力电池设备及产品相关配件的国家企业,专注设备与产品的相关制造工艺和应用技术、控制软件、工艺流程控制软件及相关生产自动化软件的研发、应用,并提供技术转让、技术咨询和技术服务。 公司成立于2006年,目前拥有在职员工近300人,其中高、中级以上专业技术职称人员80余人,公司聘请了国内真空行业专家、教授和高级工程师,专门指导和负责公司新产品的研发与设计,取得发明、外观设计、实用新型61项,版权著作权6项。公司拥有标准化生产车间,大型加工中心配备500吨液压冲压机、退火炉、小件机加工中心、液压摆式剪板机、数控火焰切割机床、数控水切割平台、自动堆焊不锈钢装置、数控加工中心,研发中心配备百格划痕仪、铅笔硬度计、恒温恒湿箱、分光光度计、盐雾测试仪、金相显微镜、线性磨耗仪、硬度计、膜厚测试仪。
该设备是利用真空磁控溅射镀膜方式,可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金属等材料表面镀制各种金属、非金属、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO等,沉积的薄膜具有良好的均匀性、附着力,该设备具有溅射速率快、基片升温低、加热稳定等特点。
实验型磁控溅射镀膜机(直流/中频/射频/离子源) 产品信息

实验型磁控溅射镀膜机(直流/中频/射频/离子源)利用真空磁控溅射镀膜方式,可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金属等材料表面镀制各种金属、非金属、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO等,沉积的薄膜具有良好的均匀性、附着力,该设备具有溅射速率快、基片升温低、加热稳定等特点。适用于任意底色的塑料,陶瓷、树脂工艺品,玻璃等经真空镀膜后皆可镀成金、银、七彩、红、紫、蓝、灰、黑等多种鲜艳颜色,具有提高产品档次,外观更显华贵作用。

应用领域:实验型磁控溅射镀膜机(直流/中频/射频/离子源)实验用真空镀膜机主要用于科研、教学、电子元件、及涂料生产等行业的表面表面镀膜。

设备特点:实验型磁控溅射镀膜机(直流/中频/射频/离子源)具有外形美观、结构紧凑、性能多样、操作简单可靠、耗电量低的特点。可实现蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、电弧镀膜等工艺。可进行手动、半自动、全自动控制.有多种尺寸型号可供选择。

设备型号 HCLB-500
真空室尺寸 Φ500×H600mm
制膜种类 半透明膜、金、银、红、蓝、绿、灰、黑、七彩等多种颜色
电源类型 电阻加热钨丝蒸发变压器电源、高压离子轰击电源、可控硅电源
真空室结构 立式侧门结构,后置抽气系统
真空系统 分子泵+直联旋片泵准无油真空系统
极限真空 优于5.0×10-5Pa(如需更高真空度可配进口真空泵组)
基片台尺寸 尺寸Φ120mm
基片烘烤温度 室温~500℃,可调可控(PID控温)(可选择水冷机基片台)(更高烘烤温度可定制)
基片运动方式 自转,转速0-20/分可调可控
膜厚不均匀性 ≤±(1.55.0%
溅射靶 磁控靶2支,预留2个靶位/2个电弧靶位
电源 直流电源/双极脉冲中频电源/射频电源可选,数量可选
报警及保护系统 对泵、靶、电极等缺水,过流过压,断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;完善的逻辑程序互锁保护系统
选购件 蒸发电弧+电弧电源、负偏压电源、循环水机、膜厚控制系统、进口部件等
抽气时间 空载大气抽至5×10-2pa小于6分钟
工件旋转方式 6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式 手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做

主要应用于科研、教学、电子元件、及涂料生产等行业。

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