产品类型：能量色散X荧光光谱分析仪
产品名称：光谱分析仪
产品型号：XAD
产品优势：
XAD是一款全元素上照式荧光光谱仪，可测量纳米级厚度、微小样品和凹槽异形件的膜厚，可选配自动平台实现XYZ轴编程位移，实现无人值守多点测量，测量软件置入*的EFP算法及解谱技术，解决了诸多业界难题。
被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。
1）搭载微聚焦加强型X射线发生器和*的光路转换聚焦系统，最小测量面积达0.03mm²
2）拥有无损变焦检测技术，手动变焦功能，可对各种异形凹槽件进行无损检测，凹槽深度范围0-90mm
3）核心EFP算法，可对多层多元素，包括同种元素在不同层都可快、准、稳的做出数据分析（钕铁硼磁铁上Ni/Cu/Ni/FeNdB，精准检测层Ni和第三层Ni的厚度）
4）配备高精密微型移动滑台，可实现多点位、多样品的精准位移和同时检测
5）装配Si-Pin半导体探测器，即便测量0.03mm²以下的样品，几秒钟也可达到稳定性
6）涂镀层分析范围：锂Li（3）- 铀U（92）
7）成分分析范围：铝Al（13）- 铀U（92）
8）人性化封闭软件，自动判断故障提示校正及操作步骤，避免误操作
9）四准直器可选，最小测量面积可达0.03mm²
10）配有微光聚集技术，最近测距光斑扩散度小于10%
仪器配置：
1. 微聚焦加强型X射线管：高稳定性X射线发生器
—铍窗口，油绝缘，气冷式，辐射安全电子管屏蔽
—50kV，1mA，高压和管流设定为应用程序提供更好的性能
—符合DIN ISO 3497、DIN 50987和ASTM B 568射线标准，如有特殊要求，也可协商定制
2. 接收器：Si-Pin半导体探测器（也可选配大窗口SDD探测器）
—窗口面积≥25mm²
3. 光路转换器
—φ0.3mm（标配），φ0.2mm，φ0.5mm和□0.1*0.3mm多准直器可选
4. 定制专享高敏感镜头
—1/2.7”彩册CCD高敏感可变焦镜头，全局快门，有效像素：1280*960，光学18-46X，数字放大20-200倍
5. 恒压恒流快门式光闸
—拥有高压电源紧急自锁功能，带给您更安全的防护
6. 移动平台
—手动高精密XY移动滑台，移动范围100mm*150mm，精度0.01mm，可承重15KG
7. 全新一代高压电源
—性能稳定可靠，高达50W的功率实现更高的测试效率
8. 对流通风式过滤风冷
—*的散热系统配备，仪器即便全天候开启，都可保持恒温恒效
9. 随附标准片
—免费提供十二元素片、五选二标准片（ Ni/Cu 2um、Ni/Fe 5um、Au/XX 0.05um、Ag/XX 0.5um、Cr/XX 0.15um）、其他规格（选配）
10. 其他配置
—电脑一套、打印机、附件箱、电镀液测量杯（选配）
技术参数：
1. 成分分析范围：铝（Al）- 铀（U）
2. 成分检出限：5ppm
3. 涂镀层分析范围：锂（Li）- 铀（U）
4. 涂镀层检出限：0.005μm
5. 最小测量直径□0.1*0.3mm（最小测量面积0.03mm²）
6. 对焦距离：0-90mm
7. 样品腔尺寸：530mm*570mm*145mm
8. 仪器尺寸：550mm*760mm*635mm
9. 仪器重量：100KG
10. XY轴工作台移动范围：100mm*150mm
11. XY轴工作台承重：15KG
12. 多元迭代EFP核心算法（号：2017SR567637）
专业的研发团队在Alpha和Fp法的基础上，计算样品中每个元素的一次荧光、二次荧光、靶材荧光、吸收增强效应、散射背景等多元优化迭代开发出EFP核心算法，结合*的光路转换技术、变焦结构设计及稳定的多道脉冲分析采集系统，只需要少量的标样来校正仪器因子，可测试重复镀层、非金属、轻金属、多层多元素以及有机物层的厚度及成分含量。
单涂镀层应用：如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂镀层应用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等
合金镀层应用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分应用：如NiP/Fe，通过EFP算法，在计算镍磷镀层厚度的同时，还可精准分析出镍磷含量比例。
重复镀层应用：不同层有相同元素，也可精准测量和分析。
如钕铁硼磁铁上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，层Ni和第三层Ni的厚度均可测量。
