AREO 480 全自动清洗机，主要清洗卷式的半导体器件，利用溶剂加热侵泡清洗，热纯水漂洗，喷淋漂洗，热风循环干燥等工艺来保证产品的清洗的洁净度要求。
半导体清洗是指将半导体器件在生产加工过程中的污垢、油污、杂质等有害物质进行清洗，以确保半导体器件的品质和性能。
在半导体工业中，清洗过程对产品的成功生产和性能起着至关重要的作用。半导体清洗的主要目的是去除半导体器件表面和内部的污垢和杂质，以确保产品的可靠性和稳定性。此外，半导体清洗还可以减少生产过程中的缺陷率、提高产品的可靠性和寿命、降低生产成本。
半导体清洗一般采用以下几种清洗设备：
超声波清洗机：超声波清洗机是一种通过高频声波产生的微小气泡来清洗半导体器件表面和内部污垢的设备。其清洗效果高效且不会对器件造成损害，广泛应用于半导体清洗领域。
气相清洗机：气相清洗机是一种采用气体为清洗介质的清洗设备，通常使用高纯度的氢气、氮气等。它具有清洗速度快、无介质残留、适用于高精度半导体器件等优点。
