扬州市热水系统专用AOT紫外光设备 紫外线系统的经济学决定于以下因素：设备造价和寿命；电效率；运行中杀菌效果的降低程度；电费等。对于紫外线消毒系统的经济分析尚未做出定论，有很多结论不同的分析报道，有观点认为紫外线杀菌装置电耗大，设备维护费和造价较高。对于大系统，设备投资比臭氧系统高，运行费用与臭氧相仿；但对于纯净水制造的小型系统投资较臭氧装置为低。也有观点认为对于数千吨/日以上的处理规模，紫外线消毒系统的投资和运行成本很具优势，要比加氯和臭氧消毒的花费都低得多。例如有分析资料报道，在建造人口数为10~25000范围的小型饮用水处理厂时，紫外线、二氧化氯和臭氧消毒费用的近似比例为1:4：（8~9），对于人口数大于500000的社会团体，费用比约为1:2.5:2.5。
扬州市热水系统专用AOT紫外光设备 大多数紫外线装置利用传统的低压紫外灯技术，也有一些大型水厂采用低压高强度紫外灯系统和中压高强度紫外灯系统，由于产生高强度的紫外线可能使灯管数量减少90%以上，从而缩小了占地面积，节约了安装和维修费用，并且使紫外线消毒法对水质较差的出水也适用。
AOT水体净化设备，集物理、化学、微生物学、机械、电子、流体力学等学科于一体，采用光催化氧化技术，利用特定光源激发纳米TiO2光触媒涂层，大大提高催化活性和使用效果，使其产生更多的具有强氧化特性的羟基自由基，将水体中的细菌、病毒、微生物、有机物等进报行分解，提高水体消毒、灭菌的效果，使处理后的水质达到国家生活饮用水、泳池水等行业用水标准。
AOT水体净化设备由紫外线制备、纳米 TiO2 涂层制备、控制器等组成。由多孔结构的TiO2纳米颗粒制备的TiO2 涂层，与紫外光充分接触，进行催化反应，导致水分子失去氢原子形成羟基自由基（OH radical），羟基自由基混合于待处理的水体中，利用反应过程中羟基自由基的强氧化性，对水体中的细菌、病毒、微生物、有机物以等进行降解，将高分子和大分子有机物反应形成小分子化合物直至生成二氧化碳和水，灭菌率达99%。
与同类设备相比，具有、方便、快捷、成本低程度高、 、副产物、安全可靠、适应性强、维护方便快捷等特点，本课题的开发成功，对推动我国水资源综合利用的技术进步，具有十分重要的意义。
1972年Fujishima和Honda发现光电池中光照射TiO2可以发生水的氧化还原反应放出H2，1976年Carey等将半导体用于有机污染物降解，光催化的方法引起了广泛的重视 。
早期对光催化技术的研究多集中在有机污染物的降解上，直到1985年，Matsunaga等利用UVA波段的光源在TiO2催化下进行了杀灭微生物实验 。至此，一系列的AOT光催化灭菌的研究工作从此展开。
软件及控制单元
主体集成具有控制程序的4.5英寸TFF彩色液晶显示；
同时支持在线自动控制和手动立控制两种工作模式；
自动控制模式下，可实时显示阀门位置，具有安全防护预警功能；
内置仪器方法，使用时仅仅需要设置采样周期与采样次数，操作简单；
具有二级加密调试程序，用于设备调试、内部方法设定及用户灵活使用。
紫外线杀菌消毒是利用适当波长的紫外线能够破坏微生物机体细胞中的DNA（脱氧核糖核酸）或RNA（核糖核酸）的分子结构，造成生长性细胞死亡和（或）再生性细胞死亡，达到杀菌消毒的效果。紫外线消毒技术是基于现代防疫学、医学和光动力学的基础上，利用特殊设计的率、高强度和命的UVC波段紫外光照射流水，将水中各种细菌、病毒、寄生虫、水藻以及其他病原体直接杀死。
紫外线系统的经济学决定于以下因素：设备造价和寿命；电效率；运行中杀菌效果的降低程度；电费等。对于紫外线消毒系统的经济分析尚未做出定论，有很多结论不同的分析报道，有观点认为紫外线杀菌装置电耗大，设备维护费和造价较高。对于大系统，设备投资比臭氧系统高，运行费用与臭氧相仿；但对于纯净水制造的小型系统投资较臭氧装置为低。也有观点认为对于数千吨/日以上的处理规模，紫外线消毒系统的投资和运行成本很具优势，要比加氯和臭氧消毒的花费都低得多。例如有分析资料报道，在建造人口数为10~25000范围的小型饮用水处理厂时，紫外线、二氧化氯和臭氧消毒费用的近似比例为1:4：（8~9），对于人口数大于500000的社会团体，费用比约为1:2.5:2.5。
大多数紫外线装置利用传统的低压紫外灯技术，也有一些大型水厂采用低压高强度紫外灯系统和中压高强度紫外灯系统，由于产生高强度的紫外线可能使灯管数量减少90%以上，从而缩小了占地面积，节约了安装和维修费用，并且使紫外线消毒法对水质较差的出水也适用。
使用方法
2.3.5.1 对物品表面的消毒
(1)照射方式：好使用便携式紫外线消毒器近距离移动照射，也可采取紫外灯悬吊式照射。对小件物品可放紫外线消毒箱内照射。
(2)照射剂量和时间：不同种类的微生物对紫外线的敏感性不同，用紫外线消毒时使用照射剂量达到杀灭目标微生物所需的照射剂量。
杀灭一般细菌繁殖体时，应使照射剂量达到 10000 uW.s/CM2；杀灭细菌芽胞时应达到100000 uW.s/CM2；病毒对紫外线的抵抗力介于细菌繁殖体和芽胞之间；真菌抱子的抵抗力比细菌芽胞更强，有时需要照射到以对600000 uW.s/CM2；在消毒的目标微生物不详时，照射剂量不应低于100000 uW.s/CM2。
