加速电压:30Ke可选50Ke
电子束束流:10PA-200nA
单场尺寸:500μmX500μm
样品台:4英寸
样品台:采用激光干涉定位
样品台移动范围:100mm
最细线条:30nm
拼接精度:50nm
套刻精度:50nm
中国的曝光系统行业市场目前正处于快速发展的阶段,技术不断进步,产品创新不断增加。近年来,曝光系统的应用领域也发生了很大变化,在工业制造、半导体制造、印刷包装等领域得到了广泛应用。
随着技术的进步,电子束曝光系统行业市场的竞争格局也开始发生变化。中国电子束曝光系统行业市场的竞争格局主要集中于几个方面。企业间的竞争日趋激烈,各大厂商均在加强技术研发、品牌宣传等方面进行竞争。在产品质量方面,各大厂商也竞相投入,以提升产品的抗腐蚀性、精度、可靠性等性能。再次,在价格方面,各大厂商也在不断努力,以提升电子束曝光系统的性价比,吸引更多的消费者。