产品介绍
QSG 750-II单基体或多基体模型非常适合要求尽可能低的检测限、高的重现性和有关分析物的额外冶金信息的所有应用。应用范围从钢铁厂或其他冶炼厂等初级生产商到金属加工公司，再到研究机构和大学。
QSG 750-II 与 QSN 750-II主要区别在于数据记录系统，该系统基于 OBLF 开发的 GISS 技术（Gated Integration of Single Sparks）。在尺寸相同的情况下，它还配备了久经考验的硬件组件，例如温度稳定的 750 毫米真空光学元件、具有可自由定义参数的门控数字源 (GDS) 技术以及获得自清洁火花架。排气过滤器可确保清除消耗的氩气。所有关键设备部件的轻松可访问性简化了需要由用户执行的服务任务。
性能特点
- 多矩阵应用
- 多达 64 个 PMT 元件通道
- GDS III 火花发生器
- 真空系统
- 自清洁火花架
- 适用于自动化系统
- 门控集成 (GISS)
- 包含分析 (GISS)
- 双电极系统，可选 ULB
- 自动电极清洁作为选项
技术参数
- 光学
Paschen-Runge 安装的光谱仪
罗兰圆直径 750 毫米
波长范围 110-770 nm
光学元件和读出电子元件的温度稳定在 ± 0.1°C，具有长期稳定性
自动计算机控制型材
彗差校正狭缝
根据各自波长选择的 PMT 类型
抗震性
- 电子
稳压 PMT 高压电源
每通道 23 位 AD 转换
GISS 技术（单火花门控集成）
DSP处理器控制
连接光谱仪 PC 的 USB 接口
- 电源供应
230V; 50/60 Hz; 1,5 kVA
待机模式下 500 W
- 环境条件
工作温度：10 – 40 ºC
产品尺寸
尺寸和重量
宽度：104 cm
高度：130 cm
深度：90 cm
重量：约 460 kg
产品参数
