产品介绍
用于双激光故障注入的 D-LMS 显微镜站是一个平台，允许独立聚焦和扫描两个激光点，用于集成电路的评估。双点注射工艺的理想选择，它提供了所有空间和时间的灵活性，可以通过背面分析电路
性能特点
集成电路评估双激光站(均通过显微镜点)
背面激光故障注入的理想选择
具有高分辨率物镜的1米以下单模激光光斑尺寸
两个激光光斑都具有独立的时间和空间调制
通过数百米的硅来观察集成电路路径上的激光点的照相机
高再现性和高分辨率激光光斑位移
包括三个阿尔法诺夫激光模块
可选功能与配件
光学镜头技术
光电发射套件
热激光刺激套件
通过CE认证的激光外壳完成自动设置
高分辨率目标
技术参数
单模光纤激光器
|
| PDM+/PDM+ HP | PDM4+ and PDM4+ HP |
| 脉冲持续时间 | 从1.5纳秒到连续波 | 从1.5纳秒到连续波 |
| 峰值功率 | 高达3.2瓦 | 高达10瓦 |
| 波长 | 980纳米；1064牛米 | 980纳米；1064牛米 |
| 重复率 | 从单发到250兆赫 | 从单发到250兆赫 |
| 命令接口 | TTL/LVTTL /软件& dlls | TTL/LVTTL /软件& dlls |
| 光束质量 | 单模 | 单模 |
InGaAs 红外相机
| Captor | 640x512 µm |
| 动态量程 | 140 dB |
| 接口 | USB(包含软件) |
电学
| 电压 | 220 V/110 V |
| 电流 | 16 A |
产品参数
