光催化设备选型

光催化设备选型

是利用光来激发二氧化太等化合物半导体，利用它们产生的电子和空穴来参加氧化—还原反应。 当能量大于或等于能隙的光照射到半导体纳米粒子上时，其价带中的电子将被激发跃迁到导带，在价带上留下相对稳定的空穴，从而形成电子—空穴对。由于纳米材料中存在大量的缺陷和悬键，这些缺陷和悬键能俘获电子或空穴并阻止电子和空穴的重新复合。这些被俘获的电子和空穴分别扩散到微粒的表面，从而产生了强烈的氧化还原势。

产品特点

1、能高效去除挥发性有机物及各种恶臭味，适应性强，可每天连续长时间工作，运行稳定可靠

2、恶臭气体无需进行预处理，运行成本低，设备耗能低，可节约大风量排风动力能耗

3、适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件，无需添加其他物质进行化学反应，只需设置相应的排风管道和排风动力。

光催化设备选型

工艺原理

光催化通常是指有机物再光的作用下，逐步氧化成低分子中间产物最终生成如CO2，H2O及其他的离子如：NO3-，PO43-，C1-等。有机物的光降解可分为直接光降解，间接光降解。前者是指有机物分子吸收光能后进一步发生的化学反应。后者是周围环境存在的某些物质吸收光能成激发态，再诱导一系列有机污染的反应。间接光降解对环境中难生物降解的有机污染更为重要。

优点：

1. 直接用空气中的氧气做氧化剂，反应条件温和（常温 常压） 

2. 可以将有机污染物分解为二氧化碳和水等无机小分子，净化效果*。
3. 半导体光催化剂化学性质稳定，氧化还原性强，成本低，不存在吸附饱和现象，使用寿命长。
4. 光催化净化技术具有室温深度氧，二次污染小，运行成本低和可望利用太阳光为反应光源等优点，所以光催化特别合适室内挥发有机物的净化，在深度净化方面显示出了巨大的应用潜力。 常见的光催化剂多为金属氧化物和硫化物，其中二氧化太的综合性能，应用*。