该系统是一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究。通过滑动炉子可以实现物料的快速加热和冷却。
应用范围：
广泛应用于半导体工业中沉积薄膜材料，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
技术参数：
| 产品名称 | 1200℃双管滑道式CVD系统 |
| 部分： 1200度滑道双管双温区管式炉 | |
| 产品型号 | 1200度滑道管式炉 |
| 炉管尺寸 | 双石英管 外管：OD 100 x ID 96 x 1400 mm 内管：OD 80 x ID 75 x 1800 mm |
| 加热区 | 220+220mm |
| 供电电源 | 230V，单相，50HZ |
| 功率 | 4.0 kw |
| 加热元件 | 电阻丝 |
| 升温速率 | 0-20°C/min |
| 热电偶 | K型 |
| 第二部分： 水冷系统 | |
| 法兰 | 1.水冷机 CW-3000 2.水冷，密封双管的真空法兰：允许反应气体通过两管之间（10mm间隙）发生反应，冷却气体直接通入内管. |
| 第三部分 真空系统 | |
| 真空系统 | 1. 防腐数显真空计 2. VRD-16旋片泵，抽速4L/S,含挡板阀 KF25接口，波纹管和箱体 |
| 第四部分 混气系统 | |
| 质量流量计 量程： MFC 1: 0~10 sccm MFC 2: 0~200 sccm MFC 3: 0~10 slm MFC 3: 0~10 slm ....... | |
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