PhableR具备以低成本光刻系统曝光高分辨率周期性结构的能力。它类似于传统的紫外曝光机，将涂有光刻胶的晶圆接近掩模版，然后用一束紫外深紫外光照射。由于Eulitha的突破性PHABLE曝光技术，分辨率不再受到不希望出现的衍射效应的限制。如亚微米周期线性光栅和二维图案等结构(如六方和四方晶格曝光)，均具有高均匀性和保真度。
PhableR 100 DUV光刻机是一款针对科研和研发的基础手动机台。对于纳米周期性结构，不需要复杂的工艺过程或经验，就可以制作大面积，均匀性和重复性好的一维、二维光栅结构。有关设备和服务的一些特点：
1. 设备操作简单
2. 与前后道工艺和配套设备兼容性性好
应用广泛，包括:
