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广电计量检测集团股份有限公司

K1050X射频等离子清洁刻蚀灰化仪

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具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称南京覃思科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       号K1050X
  • 所  在  地南京市
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2025/5/20 14:20:24
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南京覃思科技有限公司是原江南光学仪器厂设计师改制后设立的一家从事光学、电子仪器销售与服务的专业公司。公司地址:南京市鼓楼区中山北路281号新城市广场虹桥中心2-728B。经营范围主要为:光学仪器;电子光学仪器;光电测量仪器;电子仪器;与仪器配套的计算机软硬件的销售、研发以及技术服务。本公司具有多年的行业经验,拥有良好的客户资源和技术能力,所销售的仪器质量和服务均为,在用户中口碑很好。为进一步强化华北地区的市场及服务,我公司在北京设立了办事处。 我公司获得了英国Quorum电镜制样设备、英国Deben电镜附件、荷兰ASI光子计数型混合像素探测器相机(X ray 和 TEM ED等应用)、荷兰Micro to Nano电镜耗材及用品、美国JC Nabity 电子束曝光系统(NPGS纳米图像发生系统)、美国PIE Scientific等离子清洁仪等仪器的中国区代理商和服务商的资格。产品包括:英国Quorum(Emitech):CryoSEM冷冻传输系统/扫描电镜冷冻台、喷金仪、喷碳仪、磁控离子溅射仪、热蒸发镀膜仪、双层镀膜仪、手套箱专用镀膜仪、临界点干燥仪、冷冻干燥仪、等离子清洁刻蚀灰化仪、辉光放电处理机(又称辉光放电清洁仪,用于TEM铜网处理)等。英国DEBEN:Microtest系列与光学显微镜/原子力/XRD/XCT/加速器等系统配套的微测试拉伸台、半导体制冷的电镜小冷台系列、BSE/CL/STEM等KED系列Centaurus探测器、EBIC电子束感生电流测量放大及成像系统、电子束闸、电镜腔室红外CCD成像等。荷兰ASI:X射线探测器、TEM ED探测器相机以及TPX3Cam纳秒时间戳高速光学相机等。荷兰M2N:电镜及微束分析行业耗材耗品。荷兰Micro to Nano(简称M2N),持续从事基于显微镜新需求的耗品研发,是SEM、TEM、FIB、AFM、SPM、LM等微纳领域之贴心伙伴,提供优质和创新的样品桩样品座、碳膜载网、校准标样、靶材、碳棒、碳绳、工具、配件、银胶、碳胶带、铜胶带、储存盒、清洁用品、真空密封、安全防护等各种耗材器具。美国JC Nabity:NPGS电子束曝光系统(电子束微影、电子束光刻、电子束暴光、纳米图形发生器)。美国PIE:Tergeo系列台式等离子清洁仪、TEM样品杆专用等离子清洁仪、EM-KLEEN远程等离子清洁仪(电镜腔室在线清洁)。日本NIKON生物显微镜;其它进口体视显微镜、金相显微镜、工业测量显微镜;国产“江南牌(JN)”各类光学显微镜;与各种显微镜配套的国产ACCUR电动平台和显微图象处理分析软件DT-2000(含多种进口、国产CCD摄像头)等。本公司还承接各种显微镜的数字化改造。 在“把优质产品和优质服务奉献给用户”的工作方针指导下,我公司经常举办或赞助各类学术研讨、交流及技术培训等社会活动,经常参加各种展会,同时用户跟踪沟通体系完善,客户档案管理完备,客户回访服务;进而取得了良好的经济效益和社会效益. 客户涵盖于国内高等院校、科研院所、医疗卫生机构、政府机构、工矿企业等领域。例如:北大、清华、浙大、南大、东大、复旦、同济、上海交大、中科大等院校;中科院微生物所、遗传所、生物物理所、近代物理所、微电子所、等离子所、植生所、水生所、寒旱所、金属所、海洋三所、上海光机所、长春应化所、北京201所、绵阳九院、山西煤化所、广州能源所、上海石化院、大庆油田、胜利油田、首钢研究院、国家纳米中心、紫金山天文台等科研机构;广西、山东、宁波等检验,北京法医鉴定中心等国家机构;Intel英特尔、三星Samsung、西门子Siemens、日立Hitachi、博世Bosch、希捷Seagate等跨国企业;华为、天马、晨光等国内骨干企业。 本公司一向坚持以“诚信经营、诚实服务”为立业宗旨,奉行“精研覃思、无微不至”的企业文化,公司将以更优秀的科技产品及服务回报社会,愿与社会各界竭诚合作,共同发展。
K1050X射频等离子清洁刻蚀灰化仪
K1050X射频等离子清洁刻蚀灰化仪 产品信息

K1050X射频等离子清洁刻蚀灰化仪

K1050X射频等离子处理单元由固态射频发生器结合调谐电路组成。在等离子处理过程中,“自动调谐”功能可确保RF功率自动与系统或负载的任何变化进行阻抗匹配。这意味着将腔室内的射频等离子条件保持在状态-这很重要,因为它可以加快反应时间,提高结果的可重复性,并在RF周期内保护电源。具有同时两种处理气体流量针阀监控,全部或部分通气口控制。它的腔室为圆柱形,样品装载为抽屉式抽拉系统,方便使用。

K1050X等离子桶式反应器经过精心设计,可以承受大量使用-每天24小时处理某些等离子灰化计划-具有微处理器控制和自动操作功能,并具有耐用性和操作简便性。各向同性(各个方向)的桶式系统等离子刻蚀或等离子灰化,适用于广泛的应用。K1050X使用低压射频感应产生的气体放电来以柔和、可控的方式修饰样品表面或去除样品材料,与其它方法相比的一个显著优势是等离子蚀刻和灰化过程是干燥的(不需要湿化学药品),并且在相对较低的温度下进行,所产生的“燃烧”产物可通过真空系统方便地在气流中带走。

真空系统为旋转机械泵(K1050X)或可选用膜片泵作为前级真空的涡轮分子泵(K1050XT)。

此系统通常使用氧及氩的混合气体,氧去除有机物质(碳氢化合物),氩对样品表面进行刻蚀。K1050X RF等离子桶式反应器设计用于等离子蚀刻,等离子灰化和等离子清洁应用。射频等离子体可对各种样品和基板进行低温修饰。等离子体蚀刻在半导体行业应用较广,因为K1050X可以用于使用反应气体(例如CF 4)去除硅层,以及用于使用氧气去除光刻胶。

仪器特点:

•   紧凑的台式系统,节省空间

•   固态射频发生器及调谐电路,全自动控制,易操作

•   抽屉式结构,装/卸样品方便

•   两种处理气体

•   低温灰化过程

•  在灰化过程结束后自动终止

推荐应用:

•   煤的灰化;有机材料(例如环氧树脂,过滤器,食品等)微观灰化

•   SEM&TEM中有机样品刻蚀

•   SEMTEMSPM样品或样品夹Plasma清洁清洗

•   去除光刻胶及电子元件中的包胶,包括外延层的等离子蚀刻

•   塑料品的表面处理,实现从疏水到亲水的转化,改善塑料的油漆和上墨特性

•   石棉试样制备,人造矿物纤维及石棉检测

•   键合样品预处理

•   对于需要更清洁真空环境的等离子蚀刻和等离子清洁应用,请选用K1050XT

当等离子蚀刻应用涉及使用氧气作为工艺气体时,出于安全原因,强烈建议使用Edwards RV3 Fomblinized或类似的合成油旋转机械泵。当然,在需要避免使用油基旋转机械泵的地方,也可选择干式真空泵。注:本产品科研用途。

 

关键词:干式真空泵
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