应用范围
主要用于在塑料、陶瓷、金属等材质部门镀制金属膜、仿金膜等，更换不同的靶材，可得到不同的膜系，如超硬、耐磨、防腐的合金磨等。
主要用于在塑料、陶瓷、金属等材质部门镀制金属膜、仿金膜等，更换不同的靶材，可得到不同的膜系，如超硬、耐磨、防腐的合金磨等。
结构特点
1、同时配备*的圆柱磁控溅射装置和高效的电阻加热蒸发装置，将磁控溅射技术和加热蒸发技术的有效结合，使设备的适用范围更广，可得到多种不同性能的膜层；
2、*的双门（室）结构，使工件及镀料的装卸与镀膜可同时进行，大大提高工作效率。
1、同时配备*的圆柱磁控溅射装置和高效的电阻加热蒸发装置，将磁控溅射技术和加热蒸发技术的有效结合，使设备的适用范围更广，可得到多种不同性能的膜层；
2、*的双门（室）结构，使工件及镀料的装卸与镀膜可同时进行，大大提高工作效率。
磁控溅射镀膜技术
用几十电子伏或更高动能的荷能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够的能量而溅出进入气相，这种溅出的，复杂的粒子散射过程称为溅射。溅射镀膜是利用溅射现象来达到制取各种膜层的目的，即在真空室中利用荷能离子轰击靶表面，使被轰击出的粒子在基底上沉积的技术。在与靶表面平行的方向上施加磁场，利用电场和磁场相互垂直的磁控管原理减少了电子对基底的轰击，有效降低了基底温度，使高速溅射成为可能。
：李生
：
：526000
电子邮件：vacuumsale
电子邮件：vacuumsale
：www.pvd-metallizer.com
